二手 TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Oxide #9311153 待售

TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Oxide
ID: 9311153
晶圆大小: 12"
Vertical LPCVD furnace, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Oxide是一种用于蚀刻和灰化半导体晶片的先进设备。它使用湿法化学蚀刻将一层特定厚度的氧化物沉积在下面的基板上。该氧化层随后可用于集成电路中的隔离、微波和天线应用中的介电层、电子器件中的表面钝化或光电器件中的紫外线防护等多种应用。TEL TELINDY Oxide配备了高性能、低容量、抽入式化学储存设备,使其能够高效、精确、有效地运行。该装置处于封闭系统中,防止危险化学品逃逸到环境中。其自动化的化学输送装置提供了对氧化物沉积过程的精确控制,允许精确的厚度。该装置利用计算机控制的沐浴温度和气体压力来达到最佳蚀刻性能。该机还采用气流控制,以提高精度和均匀性。这些特性的结合使得TOKYO ELECTRON TELINDY Oxide在连续批次和跨不同晶圆尺寸时保持一致的氧化物沉积。该装置采用自动温度控制工具,用于在蚀刻过程中保持恒定温度。这有助于设备达到最宽的温度范围,而无需手动调整温度设置。此外,该设备还可以使用不同类型的掩码和晶片,从而减少了在生产过程中对新掩码和晶片的需求。该装置还具有自动加盖功能,有助于保护晶片在蚀刻过程中免受物理损坏或化学污染。资产还包括在工艺容器底部使用真空的差动抽水。这对防止容器内颗粒堆积很有用。最后,该模型配备了诊断功能,可以检测设备的任何故障并快速向操作员发出警报,以便采取纠正措施。综上所述,TELINDY氧化物是半导体晶片的高级蚀刻器/灰化器。它使用湿法化学蚀刻以精确的方式沉积一层氧化物,提供不同晶圆尺寸的均匀性。该装置设计有自动化的化学品输送和温度控制系统,以及自动加盖和差速泵等其他功能。诊断功能有助于检测设备的任何故障或不规则性,从而确保平稳运行和可靠的结果。
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