二手 TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD High-K #293665667 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD High-K 蚀刻器/asher是在半导体基板上创造高品质薄膜涂层和互连的最先进的设备。它使用等离子体增强原子层沉积（ALD）将高k材料（介电常数超过二氧化硅（SiO2）的材料）沉积在基板上。TEL TELINDY Plus ALD High-K系统是一个成熟的蚀刻单元，能够一步步对薄膜进行图样化和变薄。该蚀刻器设计用于传统干蚀刻机中无法使用的高k薄膜，但现在可以使用TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD High-K进行图案化和蚀刻。该蚀刻器的特点是配备了高级蚀刻和沉积硬件的大型工艺室，以及提供精确工艺监控的智能工艺控制工具。该工艺室采用不锈钢结构，能够安全有效地控制每个工艺参数，达到高质量的效果。该资产还配备了先进的光学和诊断设备，包括数字成像显微镜，用户可以密切关注薄膜沉积过程。蚀刻器由专有的工艺气体输送模型提供动力，该模型允许精确控制沉积速率、薄膜厚度、均匀性和其他重要参数。它还能够沉积多种材料，如二氧化硅、氧化铝、氧化全新和氮化钛等。此外，该设备还与各种基板兼容，包括硅、砷化的、低k电介质和塑料制成的基板。除了蚀刻功能外，TELINDY Plus ALD High-K 蚀刻器/asher还提供涂层和钝化功能。它配备了先进的沉积软件，允许用户为不同的工艺选择不同的工艺配方。该软件还使用户能够快速创建和保存用于蚀刻和沉积的进程,使他们能够根据作业的要求在进程之间快速切换。此外,系统的高级安全功能,包括离子束扫描仪和Foup Cleaner,确保设备在工具使用寿命期间安全可靠地运行。总体而言，TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Plus ALD High-K 蚀刻器/asher是一种强大可靠的高k膜处理工具。该蚀刻器提供沉积工艺的精确控制，以及各种材料和基材的蚀刻和沉积，使其成为先进的半导体研发的理想选择。