二手 TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Plus Nitride #9243663 待售

TEL / TOKYO ELECTRON TELINDY Plus Nitride
ID: 9243663
晶圆大小: 12"
Vertical LPCVD furnace, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON TELINDY Plus Nitride (TEL/TENP)是专门为氮化物膜的蚀刻和去除而设计的高精度蚀刻器/asher。它利用脉冲微波等离子体技术,连同先进的过程控制软件,提供精确的过程控制和精密蚀刻,以及极快的过程循环时间。TOKYO ELECTRON/TENP具有高精度蚀刻室,可容纳各种基材尺寸和形状。它利用脉冲反应离子蚀刻(RIE)工艺从底物中蚀刻或去除氮化物薄膜。先进的过程控制软件提供了对蚀刻过程的精确控制,允许广泛的蚀刻处理条件。先进的过程控制软件还允许优化处理条件,从而实现更快的蚀刻和灰化速度,并提高了整个过程的可重复性和均匀性。TEL/TOKYO ELECTRON/TENP以低射频功率蚀刻薄膜,去除厚度高达15-50纳米的氮化物薄膜。蚀刻过程在各种温度下进行,如室温、低温以及高温。此外,TEL/TENP还具有独特的工艺室压力和温度控制功能。这包括一个自动压力控制系统来补偿腔室内的压降,以及一个温度控制系统来尽量减少可能的温度变化。TOKYO ELECTRON/TENP具有先进的功能,例如自动氮控制系统,可以精确控制蚀刻室内的氮浓度。这可用于优化蚀刻和灰化性能。TEL/TOKYO ELECTRON/TENP还具有高级流程控制软件,可用于监控和控制流程执行过程中的所有设备参数。此外,先进的过程控制软件还具有自我诊断、配方管理以及过程日志收集和预测功能。TEL/TENP是一种用途极为广泛的蚀刻器/asher,非常适合各种应用程序和行业。这包括在半导体晶圆、太阳能电池、MEMS和其他组件上蚀刻和去除氮化物薄膜和其他电介质。TOKYO ELECTRON/TENP作为蚀刻器/asher,非常适合去除蚀刻障碍物,精炼侧壁结构,改善介电均匀性,提供精确的蚀刻和粉刷。TEL/TOKYO ELECTRON/TENP也高度可靠,易于操作和维护。这使得它成为各种行业和应用的理想选择。
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