二手 TEL / TOKYO ELECTRON Telius 305 DRM #293802362 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TELIUS 305 DRM是一款先进的蚀刻或灰化设备，设计用于高平面化蚀刻和各种底物的灰化。该系统对集成电路基板和其他需要增强平面化的材料进行精确的表面修改。Telius 313特别针对2&3-D抗蚀性结构和高纵横比蚀刻/灰化工艺进行了优化。TEL Telius 305 DRM具有在极低温度下进行蚀刻和灰化的能力,非常适合使用先进的低k电介质和高电阻率基板。TOKYO ELECTRON TELIUS 305 DRM由带有两个垂直反应堆室（或EDAC）的平台基座组成。每个EDAC都配备了一系列用于垂直蚀刻/灰化的多源RF/DC和远程等离子体发生器，以及用于水平蚀刻/灰化应用的电子回旋共振（ECR）源。该机组设有两条气体分配给每个EDAC的进料线，允许广泛的气体用于各种应用。Telius 305 DRM由于具有精确的控制区等离子体，能够产生质量极高的平面化表面，具有卓越的间隙填充能力和最小的残留物产生。该机器还能够产生非常干净的槽和不均匀的无间隙轮廓，即使在高纵横比。这使得TEL/TOKYO ELECTRON TELIUS 305 DRM特别好于各种材料的蚀刻和灰化，包括光致抗蚀剂、硅片、III-V半导体和聚合物。TEL Telius 305 DRM热预算低，只在材料上产生极小的热应力，因此适用于先进的低k介电蚀刻/灰化。这种工具还具有极高的吞吐量，因为它独特的两腔结构，允许同时蚀刻和灰化多个晶圆。TOKYO ELECTRON TELIUS 305 DRM还提供了非常高的过程均匀性和可重复性，其前所未有的间隙填充功能使偶数层在小至0.2微米的间隙尺寸上得以平面化。Telius 305 DRM非常适合各种基板的高平面化蚀刻和灰化,其特别先进的功能使其成为先进的低k介电灰化/蚀刻的理想选择。其广泛的特点，包括精确的温度控制，以及高通量和工艺均匀性，使其成为各种材料蚀刻和灰化的绝佳装置。