二手 TEL / TOKYO ELECTRON Telius SP #9197580 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Telius SP
ID: 9197580
晶圆大小: 8"
优质的: 2004
Oxide etcher, 8" (2) Telius SP vesta chambers 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Telius SP是为半导体器件制造行业量产而设计的先进蚀刻设备。它是一种三轴蚀刻器,结合了运动阶段、大功率蚀刻工艺室和真空沉积系统。该系统能够对包括晶片、薄膜和波导在内的各种基板的蚀刻工艺参数提供极其精确的控制。其先进的技术导致了高重复率、低缺陷率和快速的处理时间。TEL Telius SP提供垂直和水平蚀刻功能,这两个过程都是独立控制的,以获得最大的灵活性。垂直蚀刻工艺采用无等离子蚀刻工艺室,通过溅射蚀刻或热氧化物蚀刻等物理烧蚀方法进行蚀刻。该工艺旨在提供对蚀刻深度和侧壁深度的精确控制和均匀性。其水平蚀刻工艺采用了单独控制的等离子体蚀刻室,具有可靠而清晰的轮廓控制和优异的特征定义。该装置的高科技蚀刻工艺室采用精密控制的先进气流通道和泵机,使气体压力和气流速率的调整达到所需的蚀刻速率。集成真空沉积工具允许氮化硅、氧化硅、多硅在各种基材上快速沉积。这对于需要更好地保护免受环境污染的蚀刻应用很有帮助。此外,TOKYO ELECTRON Telius SP提供了广泛的附加功能,以提高工艺的便利性和输出。其中包括一个高度敏感的负载口清洁站,以持续清洁工艺室,实时监测蚀刻速率,专门的可编程中心监测,基板的自动对准,以及几个配方管理系统,以便在不同蚀刻工艺之间进行快速转换。总之,Telius SP是一种非常先进的三轴蚀刻资产,与传统的蚀刻工艺相比,具有更好的效果。它结合了运动阶段、蚀刻过程和真空沉积系统,可以对蚀刻过程参数进行前所未有的控制,从而为各种基材提供可重复和可靠的蚀刻结果。此外,它的负载端口清理站、实时监控、自动基板对齐和配方管理系统还提供了宝贵的功能,可实现最大程度的控制并确保高吞吐量和高输出质量。
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