二手 TEL / TOKYO ELECTRON Telius TSP-30555SSS #9231837 待售
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ID: 9231837
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
Dry etchers, 12"
Process: SHIN
Processing type: Vacuum
Wafer type: Notch
VAT 65051-JH52-AUD1 APC, 14"
Process gases:
Gas 1: CO (100 SCCM)
Gas 2: COS (15 SCCM)
Gas 3: C4F6 (30 SCCM)
Gas 4: C4F8 (30 SCCM)
Gas 5: CH2F2 (30 SCCM)
Gas 6: N2 (150 SCCM)
Gas 7: CO (150 SCCM)
Gas 8: AR (2000 SCCM)
Gas 9: CHF3 (60 SCCM)
Gas 10: CF4 (30 SCCM)
Gas 11: O2 (30 SCCM)
Gas 12: O2 (2000 SCCM)
Gas 13: CO (150 SCCM)
Gas 14: CO (150 SCCM)
Gas 16: O2 (10 SCCM)
Gauge:
Unit / Make / Model / Range
Baratron (CM 1) / MKS / 627BRETDD2P / 33.33 PA
Baratron (CM 2) / MKS / 627B11TDC2P / 1.333 PA
Baratron (CM 2) / MKS / 626A01TDE / 133.32 PA
Baratron (CM 2) / MKS / 51A11TGA2BA003 / 1.333 PA
BA Gauge / INFICON / BPG400 / -
SHIMADZU EI-4203 LMC-T1 Turbo Molecular Pump (TMP)
SHIMADZU EI-4203MZ Turbo Molecular Pump (TMP) Controller
SCINCO SELME12ZS-BP3 Robot
HV Controller
DAINEN AGA-50B2 Generator
WGA-50E Generator
HPK10Z1-TE2 DC HV Generator
DAINEN AMN-50E3 Matcher
DAINEN WMN-50C4 Matcher
Sub module:
AC Rack
DC Rack
Carrier stage: (4) Load ports
Process module: (4) Power supplies
Gas box: (3) Power supplies
Data back up: FD
Gas line injection: 16 Line
Gate: V-TAC
Missing parts:
End point detection
Chamber PC and bottom and gas and electronic B/D
SE2000 EPD Sensor
AC Rack main
Chamber 15 gas lines MFC
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TELIUS TSP-30555SSS 蚀刻器/asher是一种高精度的薄膜沉积和去除设备，设计用于先进的研究和生产。该蚀刻器利用集成的垂直真空技术和先进的控制软件来提供高精度和高吞吐量的沉降能力。该TSP-30555SSS采用直观的触摸屏控制器和彩色显示器，提供易于使用的界面，便于操作和维护。该系统具有单晶片工艺能力，并配有两个精确操作晶片的可调探头。此蚀刻器/asher可容纳2"至8"的样本量,并具有可自动调节的定位。它提供了各种各样的沉积和蚀刻气体，包括氧气、氮气和四氟化碳。在这个单元的核心是一个强大的直流磁控管溅射供电的高频射频源的高生产力。该蚀刻器还具有晶片的全PID温度控制功能。可达到的温度范围为80摄氏度至450摄氏度。此外，TSP-30555SSS具有处理半导体和金属薄膜的能力。该机器配备了各种各样的颗粒和网状材料，用于此类应用。它还具有金属离子同时蚀刻和播种的能力。该TSP-30555SSS是一种用户友好、可靠且经济高效的蚀刻器/蚀刻器。高精度、优越的工艺控制和广泛的可用材料使其成为先进研究和生产的绝佳选择。
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