二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias ALD #9294449 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS ALD（原子层沉积）是一种蚀刻器和灰化器，用于创建厚度精确、覆盖跨表面的薄膜。它设计用于沉积厚度范围从一个原子层到几百纳米的薄膜，允许在分子水平上进行精确的薄膜沉积。TEL Trias可以处理各种不同的沉积任务。它通过包括温度、速度、方向和时间在内的控制级别提供高精度和准确性。TEL Trias ALD配备了多个控制器，允许精确一致的操作。载荷锁定功能允许晶片的装卸，而无需在设备中引入污染物。它还具有多轴运动控制器，有助于确保晶片的可重复运动和精确定位。Trias还包括一个强大的排气和洗涤系统，有助于在沉积过程中达到更高的纯度。TOKYO ELECTRON TRIAS配备了先进的ALD气体面板，用于精确控制气流、温度和压力。该装置还包括一个温度控制器，该控制器在沉积过程中监视和自动调节晶片的温度，确保均匀性和质量。TOKYO ELECTRON TRIAS ALD还设计了安全功能,如封闭机柜和钥匙锁,可确保防止未经授权进入。它还具有紧急关闭开关以及在机器发生故障时自动关闭的功能。总体而言，TEL/TOKYO ELECTRON Trias是一款先进的蚀刻器/asher，配备了一系列特性和功能，以保证微观层面的精密薄膜沉积。它设计用于精确和可重复的沉积过程，提供高水平的纯度和均匀性。该工具非常适合先进薄膜材料在半导体、塑料包装和医疗行业的沉积。