二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias Ex-II #9351479 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS Ex-II是专门设计用于电子器件制造的蚀刻器或asher。它是一种化学气相沉积（CVD）设备，能够将介电或金属材料的厚膜沉积在SiC、SiO2和TaN等基板上。TEL Trias Ex-II在非常紧凑的设计中提供了快速、精确和高度可重复的工艺,使其适合制造较小的设备。该系统采用了专利的多枪技术，带有可调节的Loadlock腔室，能够处理尺寸不超过450毫米的基板。它非常适合纳米技术领域的各种先进研究和产品开发应用。TOKYO ELECTRON Trias Ex-II是使用等离子体增强CVD（PE-CVD）沉积各种薄膜的先进装置。它有一个独立的、带有杆和上部淋浴头的三枪腔室设计。每把枪由各自的驾驶员和发射器控制。通过将PE-CVD与下游蚀刻相结合，它允许沉积一个完整的致密薄膜结构，并有最少的处理步骤。机器配备了多种自动化功能，简化了沉积过程。其中包括自动校准和选择适当的工艺参数,以及自动提高最佳沉积性能的自动层厚度优化器（OTR）。此外，Trias Ex-II能够进行温度处理，并为沉积膜增加应力，以模拟现实生活中的条件。该工具还包括提供实时串联晶圆控制的Platinum 5.5 EndPoint Monitor,允许精确的层级控制和更高的最终工艺产量。它采用先进的联锁装置设计，以确保环境清洁，并具有排气和卸载能力。总体而言，TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS Ex-II 蚀刻器/asher是一种功能强大且用途广泛的蚀刻资产，非常适合制造先进的微电子器件。它提供了一个精确、高度可重复的过程,具有快速的吞吐量以及出色的层和端点控制,从而可以制造产量更高的设备。