二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias SPA #9205617 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS SPA是一种蚀刻器/asher，设计用于薄膜沉积在基板上。它被设计为能够在特定区域内提供均匀的薄膜沉积，具有卓越的精度和控制能力。此蚀刻器/asher是使用提供直观用户界面的操作设备构建的。它利用多种输入/输出设备，如计算机、触摸面板和显示屏，提供对操作过程的全面控制。该系统包括一个沉积室、一个真空单元、一个气体输送机以及一个泵和阀门工具。它还包括射频发电机和控制过程的控制单元。蚀刻器/asher利用高频等离子体发生器在沉积室内创建一个均匀的等离子体。对于所需的薄膜材料,等离子体发生器调谐到预定频率.这允许精确控制溅射过程，在整个基板上提供均匀的沉积。蚀刻器/asher可用于沉积各种材料，如铝、锌、钛，以及多种薄膜，包括结晶和无定形材料。资产还可以将金属，如铜和银，沉积在广泛的基板上，包括硅片、塑料片和玻璃。此外，它还可用于从多种角度沉积底物，包括蒸气沉积、胶体沉积和电子束沉积材料。它还具有存放多层薄膜的能力。蚀刻器/asher配备了一组特性，允许精确和可控的薄膜厚度。这些特性包括可定制的沉积速度、真空水平、压力、射频功率和腔室温度水平。此外，可以使用惰性气体屏蔽来控制沉积速率和防止有害物质的沉积，以及在沉积室内提供惰性环境。蚀刻器/灰化器能够在一定温度和气体流动范围内提供统一、超精确的沉积速率和过程控制。它能够沉积厚度可达50 nm和更大的薄膜,并具有可重复的可重复性和从运行到运行的均匀性。这提高了产品的精度,减少了运行之间的差异,从而提高了产量并提高了性能。TEL Trias SPA 蚀刻器/asher是一种可靠、耐用的产品,可在基板上提供均匀沉积的高精度薄膜。使用方便，控制性强，可用于沉积多种不同的材料。它是一种高效的工具，可以帮助提高任何薄膜沉积工艺的质量和生产率。