二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #293821837 待售
网址复制成功!
ID: 293821837
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
Metal Chemical Vapor Deposition (CVD) system, 12"
Process: Ta₂O₅ Thin-film deposition
(2) Chambers
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias是一款针对半导体等行业的高性能等离子体蚀刻器/asher。用于精确、安全地蚀刻/蚀刻小型半导体结构和晶片。它采用模块化设计和集成过程控制软件,提供高效、经济高效且先进的蚀刻/刻蚀过程。TEL Trias为各种等离子体蚀刻/灰化操作提供了一个通用平台。TOKYO ELECTRON TRIAS的设计旨在为单面和双面晶片、陶瓷涂层、金属涂层和石英涂层晶片等多种基材提供最高精度的蚀刻/灰化。它能够加工各种材料类型的产品,包括晶体、多晶体、陶瓷、硅胶等。它还具有非常精确的压力控制设备,允许非常高的蚀刻速率精度和可重复性,允许以极高的精度蚀刻复杂的过程。Trias有几种操作模式,如预溅射、溅射、蚀刻和溅射/蚀刻,以及一次执行一次操作的能力,或者一起执行多个操作。集成过程控制软件能够通过单个按钮操作同时监控和订购几个不同的进程。此外,TEL/TOKYO ELECTRON Trias能够存储多达99个预先编程的配方步骤,从而实现最佳蚀刻/灰化操作。TEL Trias还具有高速自动配方控制(HSAR)系统,该系统为用户提供了快速方便的访问可定制配方的途径,这些配方可用于以精确、准确和可重复性蚀刻材料和晶圆尺寸的各种组合。此外,用户友好型软件还具有集成的冷却单元,可实现快速冷却并防止晶圆翘曲。此外,自动化的"智能家居"功能可确保每项工作的所有组件和附件都处于正确位置,从而消除了耗时的安装准备工作。最后,TOKYO ELECTRON Trias配备了一台长期的数据记录机,记录所有与蚀刻/灰化操作相关的数据。这些数据可用于工厂管理、流程开发、缺陷分析等。记录工具还具有顺序数据格式的事件历史记录,允许用户分析处理过的晶片并调查潜在问题。
还没有评论