二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9049825 待售
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ID: 9049825
晶圆大小: 12"
优质的: 2009
CVD System, 12"
(2) Chambers: CVD & ALD
Process: NiOx, HfOx
Trias cluster: (2) Loadports
EX Module, PM2
LM: Front end / UPS
Main power distribution (MPD)
Transfer module, TM
High-k CVD reactor (PM4):
Thermal based deposition
Plasma capability: No
Includes: Spares
High-k CVD reactor, PM2:
Retrofitted for thermal ASFD (ALD) based deposition
Plasma capability: No
Includes:
Ozone capability
LDS Systems:
(3) Schumacher chemguard LDS (Air products)
Multi candi LDS (Air liquid)
PM2:
Hafnium
Nickel
Titaan
Vanadium
PM4:
Hafnium
Nickel
Titaan
Ruthenium
Strontium
PM4 Transformer box (Hi-K) option elec box:
(2) Touch screens ozonizer, PM2
(3) H2O Boxes: Air products schumacher CGII500 LDS
Process used: NiOx
Complete platform + (2) chambers CVD & ALD
Trias cluster
(2) Loadports
Manuals included
2009 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias是一款多功能蚀刻/asher设备，专为先进的半导体器件制造而设计。它采用先进的碱性灰化工艺，采用感应耦合等离子体源对样品进行高速、高密度的干洗。该系统还为超高密度设备提供了一个先进的干蚀刻平台，并提供了一套用于蚀刻III-V设备和纳米线结构的工艺。TEL Trias单元具有完全可调节的腔室和气体输送机，允许对腔室条件和气流、蚀刻速率、温度、压力等蚀刻参数进行精确控制和优化。这确保了出色的重复性和均匀性蚀刻结果。该工具还具有一个高效自动化样品装卸的综合机器人机制，无需人工装卸样品。此外,TOKYO ELECTRON Trias资产还提供集成的流程诊断和监控工具以及实时优化功能,从而实现更准确的流程控制并提高产量。Trias模型支持广泛的蚀刻气体，包括氯气、氟气、三氟化氯和四氟化氮。它还有一个原位气体输送设备，具有一致的工艺性能和优异的可重复性。可以轻松调整蚀刻过程,以满足特定的设备要求。该系统还具有一个多波长光谱监测单元，可根据特定设备要求优化蚀刻结果。该机能够利用光发射光谱实时测量蚀刻过程，并包含用于优化蚀刻过程的数据分析包。TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS工具利用先进的安全和环境控制技术来确保蚀刻过程的清洁、干燥和安全操作。它还为紧凑的占地面积而设计,可轻松安装在标准的研究实验室中,使其成为当今研究和设备制造需求的理想且经济高效的选择。
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