二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9226880 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS是专门为从底物中去除氧化物、聚酰亚胺、金属和光致抗蚀剂而设计的蚀刻器/asher。该蚀刻器采用基于氯化物的等离子体蚀刻技术，以最小的介电损伤和精确的蚀刻模式控制，快速、精确地去除不需要的材料。TEL Trias适合在氧化基基板上使用，如SiO2，蚀刻时间少于20分钟/运行，并且具有-35°C至+35°C的宽工作温度范围。TOKYO ELECTRON TRIAS的蚀刻过程利用了三个主要成分：蚀刻气体、射频电源和蚀刻板。蚀刻气体通过蚀刻板推进，在那里转化为低压等离子体。这种等离子体与基板上的目标材料发生反应，直接将其电离并踢出挥发性粒子，同时加热目标材料，使它们能够被蚀刻掉，而基板上几乎没有任何宏观区域损坏。射频电源产生射频电压，也用于激发蚀刻气体，产生低压等离子体。射频发生器具有从0.3 MHz到1MHz的各种工作频率以及从第一脉冲到第二脉冲再到任意第三脉冲的各种射频功率。较快的脉冲通常用于增加电弧向下溅射（硬质材料去除），而较长的脉冲则可增加宏观面积的损害。可以调整功率和频率的精确组合，以创造基板上材料的最佳蚀刻条件和图桉。Trias的蚀刻板由石英构成，旨在将等离子体均匀地分布在基板表面，设计用于最大程度的蚀刻效率和均匀性。具有最大3英寸基板尺寸和低至0.1mm晶片步长的能力,蚀刻板可确保在整个基板上实现均匀蚀刻。蚀刻器/asher TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS是从底物中精确去除氧化物、聚酰亚胺、金属和光致抗蚀剂的高效、精确的工具。TEL Trias凭借其易于使用的界面、可调节的频率和功率设置以及石英蚀刻板，是用于研究和生产应用的蚀刻和灰化基板的完美解决方桉。