二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9235254 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Trias
ID: 9235254
晶圆大小: 12"
优质的: 2018
Systems, 12" Process: Metal 2018 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias是由半导体行业工艺设备领先供应商TEL生产的先进蚀刻/asher设备。TEL Trias系统结合了最先进的蚀刻和灰烬技术以及优越的控制系统,为各种材料的蚀刻和灰化提供了高效、精确的方法。TOKYO ELECTRON TRIAS使用等离子体源以安全、受控和环境友好的方式蚀刻和灰分晶圆、口罩和模具等底物。该单元包括一个LPCVD底层沉积室、一个反应性离子蚀刻(RIE)室和一个灰室。LPCVD底层室提供ALD和LPCVD膜在单室内的同时沉积,精度高,稳定性高。RIE室蚀刻具有高度均匀的沟槽轮廓的浅层和深层结构。此外,RIE室包括一个深部抑制等离子体源,以确保在高纵横比结构中的深部沟槽蚀刻。Trias的灰室负责从基板表面去除某些材料,如聚合物、氧化物、氮化物、金属和其他材料。灰机配备了高密度等离子体源,在基板表面提供高蚀刻速率和均匀性。此外,灰分工艺在安全、惰性的气氛中进行,保护底物不受氧化和污染。TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS工具还具有先进的控制资产,可确保对蚀刻和灰烬工艺的精确控制。这样可以确保基板与基板之间的均匀性、可重复性以及跨多个基板的一致性。最重要的是,随着蚀刻时间的缩短和返工的可能性最小化,模型可以高效运行。总体而言,TEL Trias设备是一种最先进的蚀刻/灰化器,它将先进的蚀刻和灰分技术与卓越的控制系统相结合,以确保各种材料的蚀刻和灰分的最大效率和准确性。TOKYO ELECTRON Trias系统适用于各种真空和等离子体过程,如LPCVD、等离子体蚀刻、灰烬。此外,其先进的控制单元确保了对蚀刻和灰烬工艺的精确控制,高效保证了蚀刻时间短,返工可能性小。
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