二手 TEL / TOKYO ELECTRON Trias #9362298 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Trias
ID: 9362298
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
CVD System, 12" 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Trias是TEL专门为晶圆上复合半导体层的变薄和阵列化而设计的蚀刻器/asher设备设备。该系统以TOKYO ELECTRON在半导体设备行业的长期专业知识为基础,为用户带来精密蚀刻和灰化工艺的最新技术。TEL Trias利用直流电(DC)蚀刻和元素反应性离子蚀刻(RIE)对复合半导体薄层或蚀刻图样特征。TOKYO ELECTRON Trias本身可以使用O2-plasma、NF3-plasma、CF4-plasma和Ar-splasma进行蚀刻。Trias也可以与其他等离子体源如SiH4-plasma、N2O-plasma和O2F2-plasma结合使用。该单元的一个关键特征是统一控制选项(UCO);这有助于提高所有晶片区域蚀刻的均匀性。此选项使用全自动控制器来控制每个晶片位置的不同薄膜的蚀刻速率。这一过程有助于在每个晶圆之间和通过每个晶圆产生更均匀的蚀刻。TEL/TOKYO ELECTRON TRIAS也被设计为减少蚀刻过程中产生的废旧化学物质的数量。有一个"端点停止"(End Point Stop)选项使蚀刻过程在预定点处完成。这减少了每次蚀刻所用的能量和材料,使机器更环保。TEL Trias还配备了许多精密的安全功能。在整个蚀刻过程中监测温度、压力和气体水平。此外,还有一个紧急关闭开关,当检测到任何异常的化学物质或温度读数时,它会迅速关闭进程。总之,TOKYO ELECTRON Trias是一款高效、可靠、安全的蚀刻工具,旨在满足半导体行业的需求。具有卓越的蚀刻精度、UCO选件、内置安全特性;Trias非常适合在晶片上蚀刻复合半导体层和图桉化特征。
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