二手 TEL / TOKYO ELECTRON U2e-855II #9363962 待售

TEL/TOKYO ELECTRON U2e-855II是微电子工业中使用的最先进的蚀刻设备。该蚀刻系统结合了等离子体增强干蚀刻工艺和化学气相沉积（CVD）工艺。该装置为硬质和软质材料的蚀刻提供了卓越的均匀性、高通量和低缺陷率。TEL U2e-855II提供高分辨率和高速度,用于刻蚀孔、沟槽和图样。通过电离气体溷合物，然后用磁感应施加的电场控制温度和能量，进行蚀刻过程。这些微波导致等离子体形成，从而创造出适合蚀刻的低温低压环境。外部提供热量以确保在整个蚀刻过程中有足够的能量。TOKYO ELECTRON U2e-855II有一个控制面板，用户可以在其中监控和调节腔室压力、工作气体成分、脉冲速率、等离子体功率水平和离子能量。基于PC的集成用户界面还允许在蚀刻过程中进行控制和监视。机器有一个方便的内置输送机工具，在蚀刻过程中稳定地通过机器移动晶片。此外，U2e-855II还配备了高纵横比（HAR）通道蚀刻技术，使用户能够在硅片、石英晶体和陶瓷基板等硬质材料中蚀刻出深而复杂的图样。HAR技术也有利于产生表面损伤最小的高三维轮廓。该资产为各种应用程序提供了一系列出色的功能。例如,TEL/TOKYO ELECTRON U2e-855II非常适合接触蚀刻、通过空穴蚀刻、高长宽比蚀刻以及创建深而复杂的图样。它还能处理多种基板，与微电子工业中使用的所有类型的光掩模兼容。总体而言，TEL U2e-855II是一种先进的蚀刻模型，适用于各种微电子应用。它提供卓越的一致性、高吞吐量和低缺陷率,同时为用户提供复杂的控制和监控功能。该设备适用于多种蚀刻应用，可轻松处理硬、软材料。