二手 TEL / TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD #9178057 待售

TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD是介电层的先进蚀刻器，包括氮化硅、二氧化硅、蚀刻止动层的蚀刻背。TEL UNITY 2E 85 DD可用于蚀刻二氧化硅、氮化硅、非晶硅和氧化氮。此高级蚀刻器还提供了在各种材料上创建高级特征和图桉的功能。TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD高效可靠的设计，保证了最佳蚀刻均匀性和精度。使用一种高反应性、低温的、以氙/氯为基础的化学方法可以极好地控制蚀刻速率和蚀刻各向异性。借助先进的控制基板定位器（ACSP）技术,UNITY 2E 85 DD提供了广泛的基板尺寸和形状,可以精确、精确地进行蚀刻。此外，TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD的大工艺窗口有助于最大限度地减少平衡时间，确保聚焦于目标结果。TEL UNITY 2E 85 DD专为在半导体处理应用中产生质量最高的互连场图像（IFF）而设计。IFFs提供了精确的窄特征阵列的额外好处,使它们能够以极高的分辨率集中使用。这是由于TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD具有卓越的蚀刻能力，因为它提供了不同材料间蚀刻速率的优异选择性、快速蚀刻吞吐量和高度均匀的蚀刻结果。UNITY 2E 85 DD还提供了优越的透硅VIAS （TSV）蚀刻,非常适合对密度极高的狭窄特征进行蚀刻。最小化的特征载荷为地形层的定位提供了极大的灵活性。此外，蚀刻工艺的高度均匀性确保了这些狭窄的特征以均匀的深度精确蚀刻。为了帮助用户满足其维护和故障排除需求,TEL/TOKYO ELECTRON UNITY 2E 85 DD具有板载诊断和数据记录功能。它具有一个完整的闭环控制，以优化过程结果和质量保证。最后,各种各样的选项和智能功能允许更多特定于用户的流程优化和自定义,从而改善了流程周期时间。综上所述,TEL UNITY 2E 85 DD蚀刻器提供了出色的介电层蚀刻功能、严密的聚焦控制、大的工艺窗口、快速的蚀刻吞吐量、增强的功能加载、板载诊断和数据记录功能,以及用于流程优化和定制的各种选项和智能功能。