二手 TEL / TOKYO ELECTRON Unity II 85DD #188831 待售
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ID: 188831
Dry Etch/Oxide, 8"
SMIF Interface Ready
Software version: 3.00 Rev 206-PMS-3.11a
Chambers:
PM 1: Unity II 85 DRM Oxide Etch
ESC Type: Ceramic
Process Kit Material: Quartz
Lower RF: ENI OEM-25B
Turbo: Ebara ET600WS
PM 2: Unity II 85 DRM Oxide Etch
ESC Type: Ceramic
Process Kit Material: Quartz
Lower RF: ENI OEM-25B
Turbo: Ebara ET600WS
Process Kit:
Botttom Electrode: 1D10-100582-14
Upper Electrode: 1D10-201429-15
Focus Ring: 1D10-302209-14
Plate Baffle: 1D10-100854-14
Shield Depo: 1D10-303124-16
Ring Insulator: 1D05-300052-13
Cover Bellows: 1D10-200734-14
Chiller: SMC INR499-201
1997 Vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UNITY II 85DD是一种asher/etcher设备,设计用于半导体制造过程中的清洗、纹理和蚀刻硅片。该系统旨在为清洁和蚀刻等应用以及微机械应用提供精确、可重复的结果。使用TEL Unity II 85DD,用户可以使用直观的图形用户界面(GUI)或强大的命令语言对进程进行编程。该设备采用8.5英寸全彩色SVGA触摸屏,易于操作和编程。该单元具有四个与基础单元相连的独立工艺室,从而实现了高效的多室晶片处理。腔室的最高工作温度为400°C,设计用于干湿工艺。TOKYO ELECTRON UNITY II 85 DD提供了广泛的工艺能力,包括等离子体蚀刻、金属氧化物/氢蚀刻、聚合物蚀刻和抗蚀膜。该机还具有集成气体处理能力和低流量自动气体切换,以尽量减少化学废物。UNITY II 85 DD提供具有6轴精度和控制的精确过程控制。用户可以实时对配方进行编程和监控,从而可以快速修改中期运行的流程。可以以数字方式导出工具数据,以便于解释结果,而TEL UNITY II 85 DD具有自动调整功能,可优化设置以实现最大的吞吐量和结果的可重复性。除了标准配置外,该单元还可以配备多种配件和集成技术。Unity II 85DD与一系列端部效应器兼容,包括刷子、磁铁、散热器和喷嘴歧管。集成的选项,如自动晶圆处理、自动气体处理和自动压力控制,进一步简化了流程。总之,TEL/TOKYO ELECTRON UNITY II 85 DD为各种应用提供了功能强大、易于使用的蚀刻和清洁资产。它是按照精确的规格构建的,具有集成的电动阶段,以及直观的图形界面,允许用户快速、轻松地编程和执行流程序列。该设备具有自动处理选项和高级工艺功能,是各种规模的制造商的理想解决方桉。
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