二手 TEL / TOKYO ELECTRON Unity II #184470 待售
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ID: 184470
SSCM chamber, 8"
Configuration with Yttrium Process Kit
Unity M Platform
Turbo Pump Seiko Seiki Stp A2203 Wi-U For The Sccm Chamber
Software Rev.3.60
End point detector box
12 Gas Configuration:
GAS PM1
C4F8 30
C5F8 20
CO 500
AR 1000
O2 30
CH3F 50
C4F6 30
N2 500
CF4 100
CHF3 100
O2 1000
H2 500
Accessories:
(1) Alcatel Dry Pump Adp122 P For Process Chamber
(1) Chiller Smc Tcu Dual Channel, Pm1
(1) Generator Rack For Pm1 60mhz And 2 Mhz
Chamber currently installed in system
2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON UNITY II是一种用于制造先进半导体器件结构的蚀刻/asher设备。它是利用气相反应室实现底物蚀刻和灰化的全自动系统，导致原子级精密薄膜厚度控制和整个晶片的高均匀性。该机能够支持多种工艺，并配备了HF（蚀刻）、ICP（蚀刻）、CVA（CVD）、退火和干蚀刻等先进工艺。该单元适用于包括3 D电容器制造、通过孔填充、金属化、刚性和柔性基板蚀刻、超光滑表面蚀刻等多种应用。TEL Unity II专为单晶片蚀刻、灰烬和序列外沉积而设计。它具有自动化的负载锁定机、负载监控和过程控制功能。蚀刻器/asher工具的设计目的是通过包括聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二酯、金属和硅基介电材料在内的多种材料来提供稳定的工艺控制和提高工艺产量。其先进的规划和测试功能,包括薄膜质量监控、均匀性评估以及具有可变几何形状的样品目标蚀刻,有助于确保过程优化。TOKYO ELECTRON UNITY II 蚀刻器/asher资产中的气相反应室采用动态压力控制操作，使过程具有灵活性。腔室的Z方向晶圆流设计允许使用In-line和Coulombic self-bias （CSB）技术的一系列复杂蚀刻操作。该室还配备了串联反应监测器，用于监测蚀刻活性和反应条件。Unity II 蚀刻器/asher模型还包括精密的图形处理软件和真空室控制系统，以利于过程优化，减少刀具停机时间和改善多晶片操作的设备连续性。此外，该系统还具有多种安全特性，如冗余PID控制和射频或微波网络的选择。TEL/TOKYO ELECTRON UNITY II 蚀刻器/asher单元是一种用于设备制造的精密工具，设计用于连续、可靠的操作。蚀刻机具有先进的特点和坚固的工程性能，能够制造出具有原子尺度控制和高度均匀性的极其复杂的结构。它是在生产速度下快速生产具有紧密公差要求的高性能半导体元件的理想选择。
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