二手 TEL / TOKYO ELECTRON Unity IIe 855DD #9109094 待售

TEL TEL/TOKYO ELECTRON UNITY IIe 855DD是一种高性能的自动化蚀刻器/asher设备,旨在提供半导体应用中的精密蚀刻和灰化工艺。该系统在各种半导体晶片的蚀刻和灰化配方方面提供了广泛的选择，如Si、GaAs、GaP、AL、InP和CdZnSe。TEL UNITY IIE 855 DD采用经典ICP（感应耦合等离子体）技术与RIE（反应性离子蚀刻）相比，减少了等离子体污染，提高了选择性。此单元的最大蚀刻速率高达1微米/秒,可提供快速、高通量的蚀刻和灰化。TOKYO ELECTRON UNITY II E-855DD还提供多步蚀刻、配方运行、配方回收和可追溯记录等高级功能。该机配备了最先进的真空沉淀室，提供卓越的工艺均匀性，集成真空泵和先进的气体处理工具，可重复工艺和可重复效果。TEL/TOKYO ELECTRON UNITY IIE 855 DD还具有高级配方编辑软件包，用于用户友好的配方管理。TEL UNITY II E-855DD配备15英寸液晶彩色显示器，两个触摸屏，一个键盘，一个鼠标和广泛的软件程序选择。设备包括等离子体、等离子体阀箱资产、远程等离子体源、cotrap电源、等离子体监测仪、石英敏感器基座等辅助设备。此外,该模型还配置了专用的高级薄膜沉积模块,如其自动薄膜沉积设备,该设备使用电源线来提高薄膜质量和自动薄膜控制系统（AFCS）。这一单元还设计了全安全协议，包括互锁、气压传感器、严酷的真空互锁、液体陷阱排除以及等离子体perma-position探测器。它还提供了一个可选的自动晶片转换机和改进的E-chamber清洁改善蚀刻和灰化性能。总之，UNITY IIE 855 DD是一种专门为满足半导体行业需求而设计的自动化蚀刻/asher工具。它提供了一系列减少等离子体污染、改进选择性、高通量蚀刻和灰化、高级薄膜沉积模块和全安全协议的功能。