二手 TEL / TOKYO ELECTRON Vigus harc #9244885 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Vigus harc是设计用于半导体製造过程的蚀刻器或asher。该设备以微波等离子体增强化学气相沉积（PECVD）为基础，用于以氧化物、氮化物或金属层的形式在晶片上沉积硅、氙等材料的薄膜。该蚀刻器具有由低压电容耦合射频放电电池组成的等离子体源。该系统配备了多模式电源，能够用广泛的等离子体气体进行蚀刻，如氧气、四氟甲烷、CF4、氯气和氮气，以及这些气体的组合。蚀刻室设有耐化学的内壁和密封真空单元。一个特殊的加热单元连接到腔室，以使蚀刻过程温度最小化，从而可以优化蚀刻结果。TEL Vigus harc蚀刻器适合于接受不同尺寸的晶片，直径从2英寸到12英寸。该机器设计为易于使用，包括一个带有图形用户界面（GUI）的控制控制台，以访问所有的工具设置，使过程配方便于编程和修改。蚀刻器的设计也非常可靠，符合安全和产品质量所需的行业标准。它的高级监视资产能够在出现异常时快速检测到任何问题并向操作员发出警报。车载通信模式还能够快速向其他连接的设备和系统发送通知，从而实现更好的流程监控。总之，TOKYO ELECTRON Vigus harc蚀刻器是一种可靠、灵活的蚀刻解决方桉，具有更高的安全性和产品质量。其先进的等离子体源和处理能力使其成为半导体制造过程的理想工具。