二手 TRION APO III #9216394 待售
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ID: 9216394
晶圆大小: 4"
ICP Etcher, 4"
No RIE
Process:
Descum
Ashing with downstream O2 plasma
MFC: O2 2000 SCCM
Heated platen
Heated end effector
Power: 220 V, 60 Hz, 15 A, 3 Phase, 1250 W.
TRION APO III是专门为光掩模工业的生产过程而设计的高分辨率蚀刻器/asher。APO III在快速、准确地蚀刻或粉刷光掩模的同时实现了最大分辨率精度和均匀性。TRION APO III旨在实现重复一致的性能和易于操作。APO III是一个集成设备,由一个完全封闭的工艺室、掩模处理模块以及控制和监测系统组成。该工艺室配有两个精密调节离子源和四个加工室。掩码处理模块有一个自动掩码与基板对齐单元，以便于加载和掩码对齐。TRION APO III控制和监测机包含压力控制、射频调节、配方生成、监控和诊断。APO III最大分辨率为0.010微米，均匀性和可重复性为+/-0.0005微米。第一级蚀刻工艺产生的蚀刻速率介于10-20埃/秒之间,每个掩模可偏置蚀刻高达1000埃。TRION APO III还用HF和HCI进行湿/干处理，为各种不同的应用创建应用于光掩模的硬掩模层。APO III通过其多级蚀刻过程提供了灵活性,通过在一个过程周期中蚀刻多层,可以提高吞吐量。TRION APO III还具有强大的高容量冷却工具，有助于在长蚀刻周期内保持最大的工艺重复性。此外,APO III专为大批量生产而设计,可提供全自动模式/对齐测试和维修功能。最后，TRION APO III设计为方便用户和操作安全。通过液晶显示屏触摸屏，用户可以轻松设置和监控蚀刻过程，并在过程中查看各种诊断。该资产还配备了气体报警器、腔室干燥机、气体泄漏/超压检测监测等安全系统，促进了更安全的操作环境。
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