二手 TRION Minilock Orion II #9195271 待售
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ID: 9195271
优质的: 2001
PECVD Load lock triode system
(6) MFC: CF4, O2, TEOS, DES, NH3 and N2 for purge
Automatic purge (Gas cabinet)
Ceramic ring focuses plasma
Optimizing power utilization
Bottom and top electrodes are water cooled
Chamber equipped with: (2) Circular quartz viewing windows
Primary chamber material: Anodized aluminum
Components: Ceramic / Quartz
Computer has been replaced
Bottom electrode temperature: Resistive heater / IR Thermocouple
Upper electrode
Shower head gas distribution
Substrate loading system: Robotic / Manual
Ceramic upper chamber ring
Bottom chamber
AC Distribution / EMO
Gas cabinet: Mass flow controllers
Bottom electrode:
ADVANCED ENERGY Variable: 300-500 Watts (350-460 kHz)
AE RFPP LF-5 RF Power supply (Low frequency: 50-460 KHz)
Top electrode:
Triode source
ADVANCED ENERGY AE RFG 600 Watts
For film stress control capability 3001: 13.56 MHz
Includes:
EDWARDS QDP40 Drystar dry backing vacuum pump 230 VAC, 3 Phase pump
OSAKA TS443 Helical grooved turbo pump & controller
MKS 153 Throttle valve & controller
2001 vintage.
TRION Minilock Orion II是一款高性能蚀刻器/asher，用于制造集成电路、芯片封装和其他电子元件。其紧凑的设计和多用途的特性为广泛的应用提供了高效、精确的材料处理。Minilock Orion II可以以2,500 rpm的最高速度同时处理多达五层材料,以获得最佳吞吐量。TRION Minilock Orion II的功能包括高精度的运动设备、一套全面的安全特性、变速速率，以及一个全金属的腔室以更快的蚀刻。它还内置了材料识别软件，以简化编程并确保精确和可重复的结果。为了增加灵活性，Minilock Orion II可以定制附加配件，如扩展室、集成安全圈和自动化物料处理系统。TRION Minilock Orion II由低维护的直接驱动电动机提供动力，该电动机由双级进给系统支撑。这允许精确的材料定位和更高的精度，同时蚀刻。使用可调节喷嘴和手动对焦控制单元可精确调整到精确位置。其温度范围可调整至低至-40°C的温度进行精细蚀刻，而水冷却机则可确保装置的可靠性。Minilock Orion II旨在提供无与伦比的可靠性和灵活性,并且易于与其他设备集成。它还配备了广泛的监控能力，在蚀刻过程中为用户提供准确的数据。这款蚀刻器/asher的先进安全特性使其适合广泛的生产和研究环境中使用。
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