二手 TRION Orion III #293800217 待售
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ID: 293800217
优质的: 2020
PECVD System
27-CFM Rotary vane pump
Oil filter
Demister
Fomblin oil
Wall-mount MFC Cabinet with blank slot for future N2O MFC
Phantom LT Reactive Ion Etcher (RIE)
60-CFM Non-corrosive dry pump
Recirculating temperature controller
2020 vintage.
TRION Phantom LT是一款先进的蚀刻/asher设备,设计用于半导体制造过程中的高性能和多功能性。这款尖端工具融合了创新技术,为各种应用提供精确、均匀的等离子体处理,包括蚀刻、灰化、降序和光阻剥离。Phantom LT的关键特性之一是它的多重处理能力,允许各种等离子体过程的定制以满足特定的要求。该系统配备了高频射频电源和一系列气体注入选项,使用户能够控制压力、气体流速、功率水平等参数,以获得最佳工艺性能。此外,该设备还配备了高级端点检测功能,以确保准确的过程控制和端点确定。TRION Phantom LT采用双气线设计,允许对两种工艺气体进行独立控制,从而能够执行具有不同气体化学成分的复杂工艺。这种灵活性使得该机器非常适合广泛的应用,从蚀刻二氧化硅和氮化硅到剥离光致抗蚀剂和清洁基板表面。该工具的腔室由高质量的铝构成,设计为在晶圆的整个表面提供均匀的等离子体分布。这确保了一致的处理结果,并最大限度地降低了不均匀蚀刻或灰烬效应的风险。腔室还配备了温度控制功能,以优化工艺稳定性和可重复性。Phantom LT结合了先进的等离子体生成技术,利用高密度等离子体源实现高效、均匀的处理。这使得能够快速有效地从半导体基板中去除有机和无机材料,从而产生高质量的蚀刻和剥离结果。该资产还配备了动态气体注入模型,该模型增强了过程控制,并能够精确调整过程参数以获得最佳效果。设备的用户友好界面和直观的软件使操作和过程监控变得简单高效。软件提供实时流程数据可视化,使用户能够监控压力、温度、功率和气体流量等关键参数。此外,系统的配方管理功能允许轻松进行流程优化和控制,从而确保一致且可重复的结果。总之,TRION Phantom LT是一个最先进的蚀刻/asher单元,为半导体制造应用提供无与伦比的性能和灵活性。凭借先进的等离子体处理能力、精确的控制功能和用户友好的界面,该机非常适合广泛的过程,从蚀刻和剥离到清洁和表面修改。无论是用于研发还是大批量生产环境,Phantom LT都能提供可靠、高质量的成果,使其成为半导体制造的宝贵工具。
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