二手 TRION Phantom II #9308217 待售

ID: 9308217
晶圆大小: 6"
Reactive Ion Etcher (RIE), 6" Mini lock Gas manifold Turbo.
TRION Phantom II是一种高精度的等离子体蚀刻器/灰化器,适用于学术、工业和政府研究中心的蚀刻和灰化。它具有一个自动化的三级工艺,能够以高度的精确度和速度蚀刻或粉刷各种材料。幻影II从电源和真空室开始。在真空室内部,使用高压源点燃了一系列气体,例如氟、氧和氙。当材料进入工件支架时,这种活化的等离子体分解并去除表面材料,然后将其放入加工区域进行蚀刻或灰化。TRION Phantom II还配备了先进的智能运动模块和快速转向设备。运动模组控制晶圆座的运动、处理速率和处理区域的大小。快速转向系统将等离子体引导至晶圆所需的表面积,从而实现精确、均匀的蚀刻或灰化。Phantom II配备了一个完全集成、用户友好的操作单元,以及材料和蚀刻/灰化协议的综合库。它包括蚀刻速率、蚀刻铅输入、蚀刻采样、目标蚀刻速率和最大蚀刻速率的参数。它还提供了一系列安全协议来保护用户和等离子体腔。TRION Phantom II的蚀刻和灰化技术提供了优于传统等离子体蚀刻技术的质量。它也极具弹性,可用于处理不同尺寸的材料,控制蚀刻速度、目标区域,以及使用各种材料。总体而言,Phantom II是一款功能强大的高级蚀刻机/asher机器,可提供卓越的准确性、速度和灵活性。使用方便,适用于种类繁多的材料。它产生的优越成果对研究和工业应用具有很高的价值。
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