二手 TRION Phantom III #9039842 待售
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ID: 9039842
RIE / ICP System, parts machine
Bottom electrode: 8”
Vacuum port: 6"
System controller: Pentium computer, touch screen
(4) Mass flow controller gas channels
Automatic pressure control
Automatic RF tuning of bottom electrode, RF generator: 600 watt 13.56 MHz
Automatic RF tuning of ICP coil, RF generator: 600 watt 13.56 MHz RF generator
Cryogenic chuck: 100mm wafer, temperature control, -50ºC to 100ºC
Electrostatic chuck: 6", He backside cooling
Emergency on/off with AC power distribution box
Components:
High vacuum Pump: Osaka TG1003BW Osaka TC1003 controller
Backing mechanical pump: none
High vacuum valve: VAT 98801-R1 valve
Chamber pressure transducer: MKS 627
RF1 Generator: Comdel CX-600AS, RF1 automatch = Trion OEM
RF2 Generator: Comdel CX-600AS, RF2 automatch = Trion OEM
Heat exchanger: none
Chuck heat exchanger: Julabo LH85
Elecrostatic Chuck: Gripping Power EPS300
Gas Controls:
Separate exhausted cabinet for gas mixing
He backside MFC: MKS 649A, 10sccm Cal’ed for He, used with He
Gas 1 MFC: Unit 8100 250 sccm, Cal’ed for N2, used with CF4
Gas 2 MFC: Unit 8100 100 sccm, Cal’ed for N2, used with O2
Gas 3 MFC: Unit 8100 250 sccm, Cal’ed for N2, used with SF6
Gas 4 MFC: Unit 8100 100 sccm, Cal’ed for N2, used with N2
Gas 5 MFC: Unit 8100 250 sccm, Cal’ed for N2, used with CHF3
Parts missing:
PC board
Ion Gauge
Mechanical backing pump
Touch screen dead, replaced with standard PC monitor & keyboard.
TRION Phantom III是专门为生产高精度微电子结构而设计开发的蚀刻器/asher。它是同类产品中的市场领导者,提供高性能、准确性和可靠性。该设备旨在提高生产率,使用户能够快速高效地制造复杂的微电子结构。该系统是用于半导体生产的多晶硅、二氧化硅、氧化锡、GaAs等材料蚀刻和灰化的完美工具。Phantom III具有坚固耐用的设计,能够承受恶劣的生产环境。它具有一个自动化的装载室,能够一次处理多达19个晶圆。TRION Phantom III能够以5 μ m的精度处理25 μ m的结构,其均匀性在市场上是无与伦比的。这是由于先进的精密控制单元利用集成的位置间控制机器在蚀刻和灰化过程中保持精确对准。Phantom III还具有先进的过程控制功能,允许用户精确监控和调整蚀刻和灰化过程,以确保卓越的精度。这包括电源、温度和时间的闭环反馈控制,允许用户轻松调整参数以实现所需的结果。该工具还能够分析晶片上的工艺数据,以促进进一步的优化和可靠性。TRION Phantom III的先进光学资产能够在整个蚀刻和灰化过程中高效、精确地检测和监控晶片的状况。该模型与能够将光束聚焦在单个点上的高精度光束偏转设备集成在一起,用于高速精密蚀刻/冲洗。Phantom III是一款性价比高的蚀刻器/asher,提供卓越的性能和准确性。其用户友好的设计和坚固的硬件使得它成为任何微电子实验室必不可少的工具。凭借其强大的过程控制功能,它能够确保一致的蚀刻和灰化过程,这些过程非常精确和可靠。
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