二手 TRION Phantom III #9039844 待售
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ID: 9039844
RIE / ICP System
Bottom electrode: 8”
Vacuum port: 6"
System controller: Pentium computer, touch screen
(6) Mass flow controller gas channels
Automatic pressure control
Automatic RF tuning of bottom electrode, RF generator: 600 watt 13.56 MHz
Automatic RF tuning of ICP coil, RF generator: 1250 watt 13.56 MHz RF generator
Cryogenic chuck: 100mm wafer, temperature control, -50ºC to 100ºC
Electrostatic chuck: 6", He backside cooling
Emergency on/off with AC power distribution box
Components:
High vacuum Pump: Osaka TG1003BW and Osaka TC1003 controller
Backing mechanical pump: none
High vacuum valve: VAT 98801-R1 valve
Chamber pressure transducer: MKS 627
RF1 Generator: Comdel CX-600AS, RF1 automatch = Trion OEM
RF2 Generator: Comdel CX-1250S, RF2 automatch = Trion OEM
Heat exchanger: none
Chuck heat exchanger: Julabo LH85
Elecrostatic Chuck: Gripping Power EPS200
Gas Controls:
Separate exhausted cabinet for gas mixing
He backside MFC: MKS 649A, 10sccm Cal’ed for He, used with He
Gas 1 MFC: Unit 8100 250 sccm. Cal’ed for N2, used with CF4
Gas 2 MFC: Unit 8100 100 sccm. Cal’ed for N2, used with O2
Gas 3 MFC: Unit 8100 100 sccm. Cal’ed for N2, used with Ar
Gas 4 MFC: Unit 8100 250 sccm. Cal’ed for N2, used with SF6
Gas 5 MFC: Unit 8100 250 sccm. Cal’ed for N2, used with CHF3
Gas 6 MFC: Unit 8100 100 sccm. Cal’ed for N2, used with C4F8.
TRION Phantom III是一款最先进的蚀刻器/asher,旨在实现自动化的高吞吐量、精确度和一致的结果。它是研发铸造厂的重要工具,需要快速和精确的加工,才能在工业规模上产生复杂的形状和特征。Phantom III利用双聚焦离子束(FIB)设备,利用两种类型的离子束-一种用于蚀刻,一种用于沉积-同时处理同一样品。这样可以加快处理时间并提高准确性。双聚焦离子束还提供了更高的光束电流稳定性、并发的离子束能量和光斑尺寸调整以及更广泛的工艺参数等优点。TRION Phantom III能够处理各种各样的晶片,从通常用E-Beam处理的晶片到需要离子束蚀刻和灰化的晶片。Phantom III具有高达100:1的高长宽比蚀刻、从特征到特征的无缝变换以及快速可靠的处理,是一款用途广泛、功能强大的蚀刻工具。TRION Phantom III 蚀刻器/asher还配备了其他功能,如原位加热系统、防反冲机构以及允许在受控环境中快速过程变化的工艺参数。此外,还可以使用定制设计的蚀刻配方对设备进行编程,从而可以对蚀刻结果进行完整的定制。Phantom III还设有实时流程监控机,允许用户实时监控流程,以确保一致性和准确性。该工具还允许直接访问流程数据和统计流程控制(SPC)。结合其广泛的功能,TRION Phantom III在其设计中包含了集成的安全特性。这些特征的核心是主动溅射保护资产,它提供了防止样品污染和工艺违规的保护。总之,Phantom III是一款精密的蚀刻器/asher,专为自动化的高吞吐量、精确度和一致的结果而设计。它采用双聚焦离子束模型,能够处理各种各样的晶片,并包括主动溅射保护设备等安全特性。凭借强大的特性和可定制性,TRION Phantom III是研发铸造厂的绝佳工具。
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