二手 TRION Phantom III #9167672 待售

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ID: 9167672
晶圆大小: 8"
优质的: 2008
Reactive ion etcher (RIE), 8" ICP System (4) On board mass flow controllers Gases: Ar O2 CF4 N2 CHF3 Utilizes: Surface mount C-Seal technology Orbital welded VCR fittings Pump: Vacuum pump, chiller Temperature controlled chiller (2) RF Generators 600, 13.56 MHz Automatic matching network Software: Trion 2008 vintage.
TRION Phantom III是多种半导体基板的多功能、高性能蚀刻器和asher。它能够执行制造先进微电子器件所需的所有蚀刻和灰化步骤。Phantom III的主要特性和功能包括:用于制造超小型设备特性的高速率蚀刻性能和低粒子生成。能用相同的工艺在同一个腔室中蚀刻和灰化。高精度晶圆定位控制设备,提高了均匀性、吞吐量和可重复性。用于控制蚀刻速率的闭环等离子体调谐和控制。AutoFill自动化过程,可更快地更改晶圆并提高吞吐量。先进的纳米级加工和微细加工蚀刻技术。具有多个转子配置的负载锁定系统,可实现批处理。连续干泵装置,提高安全性,同时执行蚀刻和灰化过程.高精度多工艺晶片和模具提升机可确保零件的精确对准。能够在阵列形成中产生毫秒级分辨率。能够实时测量蚀刻深度和评估蚀刻结果。全自动操作和维护计划,以确保生产效率和质量.灵活的软件包,具有安全的数据访问控制、错误跟踪以及实时过程监视和控制功能。完善故障检测和诊断工具,确保可靠性和安全性.配备自动晶圆处理和清理模型的资产,以节省时间和人力。完全可配置以满足特定的流程需求。TRION Phantom III以更低的使用寿命成本提供了更好的性能,并已被证明能够显着改善周期和吞吐量。Phantom III专为制造先进的电子设备提供了一种坚固、可靠、经济高效的蚀刻和灰化工艺。
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