二手 ULVAC Enviro II #293757415 待售
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ULVAC Enviro II是一种为半导体和微电子制造而设计的蚀刻器/asher设备。它是专门为蚀刻和/或去除薄膜以及后金属蚀刻而设计的。Enviro II利用真空技术促进水平灰化和蚀刻工艺。ULVAC Enviro II具有由主室和加工室组成的腔室结构。主室和加工室都用双O形环密封。主室配有便于处理基板的锁载系统，并有一个便于装载和卸载基板的大门。加工室配有卡盘，在加工过程中牢固地固定基板。Enviro II还配备了低温冷却装置，能够精确精确的温度控制。室内的两个液氮储层在蚀刻过程中有利于基板的均匀冷却。冷却机可调节，液氮温度易调节。这允许用户最大化蚀刻结果。该工具具有多种令人兴奋的功能,旨在最大程度地减少交叉尺寸的蚀刻误差并提高蚀刻精度。ULVAC Enviro II利用质量流量计资产精确测量和控制气流、压力和温度,以便进行精确和均匀的蚀刻。它还有一个振荡器气体聚焦模型，允许用户从0-25mV改变等离子体电流，从10-50 um改变蚀刻宽度。这提供了更大的过程控制和增加基板吞吐量。再者，Enviro II有一个Anti-Bumping Plate，减少因等离子体侵蚀而产生的粒子。该设备还配备了多晶片盒式适配器，允许用户同时处理多达8个晶片。这有助于减少处理时间、增加吞吐量和提高过程稳定性。ULVAC Enviro II与各种工艺气体兼容，最大蚀刻速率高达8 μ m/min。总体而言,Enviro II是一个可靠和灵活的蚀刻/蚀刻系统,能够实现高分辨率蚀刻。该机组精确的温度控制、精确的气流控制，以及其广泛的令人兴奋的功能，使用户能够取得最佳的效果。
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