二手 ULVAC Enviro II #9258348 待售
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ID: 9258348
晶圆大小: 8"
优质的: 2009
RF Strip system, 8"
(2) Process chambers
(2) Load lock cassette chambers
Load lock transfer chamber VTS-6
(2) Wafer heating systems
Components included:
ASTEX AX3060-10
ASTEX AX3060-14
(2) ASTEX AX3153, 500 W Load
(2) ASTEX FI20162-1, 3.0 kW Mag Head
ASTEX RF Generator FI20160-1, 3.0 kW Generator
(2) BROOKS AUTOMATION VCE-4 Cassette elevator
BROOKS AUTOMATION Robot VacuTran 5 001-7600-02
DELL Desktop computer
ENI OEM-6B-01M3 RF Generator
ENI OEM-6B-01 RF Generator
ENI MWH-5-06076
ENI MWH-5-01M3
Gateway 2000 desktop computer
(2) MKS Instruments control valve
Power supply: 208 VAC, 3 Phase, 50/60 Hz, 86 A
2009 vintage.
ULVAC Enviro II是一种最先进的干蚀刻和灰化设备，旨在提高化学气相沉积（CVD）薄膜生产的产量。它是从Si、GaSb、InP、SiC和GaN等半导体晶片以及铁氧体、玻璃、石英和陶瓷等非半导体材料中蚀刻和灰化任何基材的理想系统。Enviro II的源室配备了氯气（Cl2）、三氯化硼（BCl3）、三氟化硼（BF3）等三种优质气源。源腔的设计目的是提供对气体浓度的高精度控制，能够精确测量高达300 sccm的Cl2，提供一致和高效的蚀刻。腔室还配有两个独立的不锈钢底座，方便晶圆托架装卸。ULVAC Enviro II配备了独特的创新功能-双室架构。这允许用户在源室和Ashing/冲洗室中同时蚀刻和/或冲洗晶片。这种容量允许更快的处理和更高的生产率。Enviro II的设计也是为了最大限度地提高安全性和减少对环境的影响。它使用ULVAC专有的单壁冷却装置,这有助于确保设备保持冷却和更高效地运行。这样可以减少电源使用,并提高ULVAC Enviro II的能效。Enviro II还配备了空气淋浴管机，以防止外界来源的污染。该腔室还在滤盒下方设有晶圆吊舱，里面装有气体前体，在不使用时防止气体流动。ULVAC Enviro II是任何生产环境的理想蚀刻和灰化工具。其先进的设计和功能最大限度地提高了生产效率,同时最大限度地降低了成本和环境影响。Enviro II具有高性能和易用性,是任何蚀刻或灰化应用程序的完美解决方桉。
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