二手 ULVAC NE-950EX-V #9298684 待售

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ID: 9298684
优质的: 2015
CCP Etcher Capable of running: Single, 12" / Three, 6" Automated cassette to cassette handling (3) Wafers batch: 6" dia (7) Wafers batch: 4" dia (12) Wafers batch: 3" dia (29) Wafers batch: 2" dia Equipped ICP with magnetic field ULVAC P/N: 3188353 High density plasma source (2) ULVAC P/N: 3429391 Proprietary star electrodes Dry etching technology GaN, Sapphire, metal, ITO, SiC, AlN, ZnO (4) Elements compound semiconductor materials Option included 2015 vintage.
ULVAC NE-950EX-V是一种用于半导体器件生产中蚀刻和灰化工艺的蚀刻器/灰化器。此型号的蚀刻器/asher在单个机器中结合了广泛的蚀刻和灰化处理功能。基板面积为450mm × 450mm,NE-950EX-V的加工能力可达三个玻璃晶片,一个金属或有机基板,或一块石英玻璃。它提供了多种蚀刻和灰化工艺,包括平行蚀刻、夹子蚀刻、深蚀刻、离子铣削、反应性离子蚀刻、电子束修剪和晶圆清洗。ULVAC NE-950EX-V配备了高分辨率蚀刻显微镜设备,利用漫射光学照明对每个基板进行清晰观察和精确对准。显微镜系统能够最大放大100倍,精确加工晶片,公差± 10微米。还可以用可自行更换的O形圈密封件进行蚀刻,并可以用各种气体进行干蚀刻。NE-950EX-V具有内置的ECR(电子回旋共振)源,其电子密度高达3 x 10 ¹的cm⁻¹,允许在5 Pa或更小的总单位压力内创建用于蚀刻和修剪的高密度等离子体。这种超低压力允许改善蚀刻均匀性和降低偏离晶圆表面的速率。ECR源还具有内置的数字控制器,控制电子回旋加速器频率、电流模式和自动相位同步,以确保所有基板上的最佳蚀刻和修剪。ULVAC NE-950EX-V还包括一个独特的二次场等离子体灯能够提供超高频等离子体卓越的清洁性能。等离子体灯以最高500MHz的频率运行,确保快速和一致的晶圆清洗.它包括一个外室,用5级气体控制机进行预防性维护,从而能够准确控制过程中使用的所有气体。NE-950EX-V还支持半导体生产的安全和环境措施。这包括用于降低机器周围气味和噪音风险的引擎盖和其他安全装置,以及设计适当的排气系统以尽量减少空气污染。总之,ULVAC NE-950EX-V是一种可靠且先进的蚀刻器/灰化器,能够为各种半导体器件提供卓越的蚀刻和灰化性能。凭借其高分辨率蚀刻显微镜工具、ECR源、超高频等离子灯,为半导体生产质量和可靠性设定了标准。
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