二手 ULVAC NE-950EXk #9410744 待售

ID: 9410744
Dry etcher Power supply: AX 3000 III Antenna and bias Matching box: AMVG-2000-GA Antenna AMVG-1000-125M-FV Bias ULVAC HR60 Dry pump TMP: 2203LMTG(UI) NUTEK MFC FCST1005LUC-4J2-F1000-N2 Gases: Gas line / Flow Ar / 100 SCCM D2 / 100 SCCM CF4 / 400 SCCM SF6 / 200 SCCM CL2 / 200 SCCM BCL3 / 200 SCCM BCL3 / 50 SCCM N2 / Gas line purge TPR280 Prirani gauge IKR251 Cold cathode gauge FSTC-CS003L-EC Chiller 65048-JHHC-AEX1 Vacuum throttle valve 649A21T21CAVR PFC Unit He cooling HITACHI RS550 UPS power supply.
ULVAC NE-950EXk是一种具有高真空室的蚀刻器/加速器,能够在200 mm x 200 mm的区域内进行等离子体处理。它创造了一个高精度的氢或氧等离子体过程,用于精确的蚀刻/蚀刻或表面活化。NE-950EXk配有发电源、过程气体溷合源、泵浦源、温度控制源和温度监测源。ULVAC NE-950EXk还配备了低温真空泵,使其成为有机基板蚀刻和表面改性的理想选择。其等离子体处理系统提供约10um的有效深度,允许精确控制薄膜表面。NE-950EXk还为蚀刻和表面处理提供了广泛的工艺参数,例如蚀刻的时间和电流、表面活化的温度和气体流速。此外,ULVAC NE-950EXk可以手动或半自动模式操作。手动模式允许对参数进行基本控制,而半自动模式则允许对形状不规则的基板设置定制的工艺参数和自动补偿。该驱动程序还提供数据存储和软件更新功能,进一步提供了在执行蚀刻和表面处理时的易用性。此外,还包括一个1000点矢量发生器,用于设置蚀刻过程,同时冷却可确保最佳基板质量。NE-950EXk的高真空室也确保了蚀刻/表面处理过程在清洁的环境中进行。总体而言,ULVAC NE-950EXk是一种蚀刻器/加速器,它在具有广泛工艺参数的多个基板上提供精确的蚀刻/表面激活。它具有用于清洁处理环境的高真空室,可以手动和半自动模式操作。此外,矢量发生器提供更高的精度,而冷却系统则有助于在蚀刻过程中保持最佳质量的基板。
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