二手 ULVAC uGmni-200E #293798780 待售

ULVAC uGmni-200E是为先进的半导体制造和研究应用而设计的尖端双室等离子体蚀刻器/asher设备。由全球领先的真空技术和设备供应商ULVAC Technologies, Inc.制造,uGmni-200E提供卓越的工艺灵活性、精确度和可重复性。ULVAC uGmni-200E的一个关键特点是其双腔室配置，能够在两个独立腔室中同时处理，大大提高了吞吐量和效率。这种配置允许每个腔室中独立的等离子体过程，使得系统非常适合广泛的应用，包括蚀刻、灰化和等离子体清洗。UGmni-200E配备了最先进的等离子体源和控制系统，以提供高度统一和选择性的蚀刻和灰化能力。该单元利用感应耦合等离子体（ICP）源产生高密度等离子体，这对于在包括硅、复合半导体和介电材料在内的各种基板上实现精确和均匀的蚀刻模式至关重要。ULVAC uGmni-200E中的等离子体源可以是射频或微波驱动的，可根据所加工材料的具体要求灵活优化工艺参数。该机还设有先进的射频匹配网络和电源，以确保整个过程中等离子体条件稳定一致。为增强过程控制和可重复性,uGmni-200E配备了先进的自动化和监控功能。该工具包括用于配方编程和控制的用户友好界面，允许操作员轻松设置和执行复杂的进程序列。实时流程监控和数据记录功能使用户能够跟踪关键流程参数并优化流程条件,从而实现最大效率和产量。除了先进的处理能力外，ULVAC uGmni-200E还提供一系列安全功能，以确保操作员的保护和资产的可靠性。该型号配有互锁、压力传感器、气流监测器，以防止操作条件不安全，保持工艺完整性。该设备还具有坚固的真空系统，具有高性能泵和排气系统，以确保在处理过程中快速下泵和高效排气。总体而言，uGmni-200E是半导体行业先进等离子体蚀刻和灰化应用的前沿解决方桉。ULVAC uGmni-200E具有双腔室配置、先进的等离子体源、精确的过程控制和安全特性,为广泛的研究和生产环境提供了无与伦比的性能和多功能性。