二手 ULVAC uGmni-200E #293818645 待售

ULVAC uGmni-200E是一种先进的等离子体蚀刻器/灰度设备，设计用于高级半导体制造和研究应用的高精度纳米级处理。这款尖端工具结合了创新功能、坚固的结构和精确的控制,以满足现代半导体制造工艺的苛刻要求。uGmni-200E具有紧凑的占地面积和多用途的功能,是各种等离子体蚀刻和灰化过程的可靠而高效的解决方桉。ULVAC uGmni-200E系统的核心是它的高性能真空室，它是为保持精确等离子体处理所必需的超高真空条件而设计的。该腔室采用优质材料建造，以确保耐用性和长期性能。此外，腔室设计还结合了先进的气流控制和压力调节机制，以支持广泛的工艺条件和应用。uGmni-200E单元的关键亮点之一是其先进的等离子体生成和控制能力。该机器采用最先进的射频等离子体源，在晶圆表面提供高密度、均匀的等离子体，用于高效的蚀刻和灰化操作。RF等离子体源由一个精密的RF电源单元供电，能够精确调整等离子体参数，如密度、均匀性和能量分布。ULVAC uGmni-200E工具包括一整套过程控制和监测工具，以确保一致和可靠的处理结果。该资产配备了先进的等离子体诊断工具，包括光发射光谱（OES）和质谱，能够实时监测等离子体种类和工艺条件。此外,该模型还配备了先进的端点检测设备,能够根据实时反馈信号精确控制蚀刻和灰化过程。UGmni-200E系统提供高度的灵活性和定制选项,以满足特定的过程要求和研究目标。该单元支持广泛的工艺气体，包括氟基化学、氧气、氙气以及其他半导体加工常用的反应性气体。此外，该机还配备了支持各种晶圆尺寸和材料的多功能晶圆处理工具，适合各种研究和制造应用。在用户界面和控制功能方面，ULVAC uGmni-200E资产提供了一个用户友好的软件界面，能够直观操作和控制所有模型参数。该设备配备了全面的配方管理系统，允许用户为不同的应用轻松创建和定制流程配方。此外,该设备还具有高级自动化功能,包括远程监视和控制选项,以简化工作流程并提高效率。总体而言，uGmni-200E等离子体蚀刻器/asher机器代表了先进的半导体加工应用的最先进的解决方桉。该工具具有高性能的等离子体生成、精确的过程控制和多用途的功能,非常适合进行各种研究和制造任务,需要对纳米级特征进行精确蚀刻和灰化。该资产坚固的构造、精密的监控工具和用户友好的界面，使其成为寻求在半导体技术领域取得高质量加工成果和推进创新的半导体制造设施和研究实验室的可靠而有价值的工具。