二手 VEECO Ion Beam Etcher (IBE) #293775921 待售
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ID: 293775921
LEYBOLD MAG W 1300 Pump
OERILIKON LEYBOLD D65BCS Gas
BROOKS MX400TM 4-Side transfer module
POLYSCIENCE DCW304D1M01 Chiller
MARATHON Express 400 Palette loader
MKS Baratron Manometer
Process module
Polished stainless steel chamber
Single wafer fixture with flow cool
Rotation: 3-10 RPM
Tilt: +90°-75°
Clamp
Shield
Liner
Motion box
I/O Net module
I/O Box
Loadlock
Palette elevator
Turbo pump
Gas line
(4) Pallets
(3) MFCs
(2) AC Power cabinets
RF-350 Source with PBN and shutter
Forline gauge: GP275 Mini conventron 275538-GD-T
Rough gauge: GP275 Mini conventron 275538-GD-T
GP354 Mini conventron 275538-GD-T
Loadlock chamber gauge: GP275 Mini conventron
Vacuum source and flow cool
MKS:
10 SCCM
(2) 50 SCCM
Power supply: 208 V, 3 Phase, 150 Amps.
VEECO离子束蚀刻器(,简称IBE)是一种用于半导体器件制造工艺的先进工具,用于精确的材料去除和表面改性。利用离子束技术,VEECO IBE提供了一种控制和高效的方法,以卓越的精度和均匀性蚀刻和灰化各种材料。VEECO IBE设备的核心是离子束源,它产生聚焦的高能离子束,轰击底物,打破分子键,通过物理溅射去除物质。离子束可以由多种离子源产生,如稀有气体如氙气或反应性气体如CF4,这取决于所加工的特定材料和所需的蚀刻特性。VEECO IBE系统的主要优点之一是能够实现高蚀刻速率,同时在基板表面保持优异的选择性和均匀性。这在半导体制造过程中至关重要,因为对材料去除的精确控制对于制造纳米级器件至关重要。VEECO IBE单元提供了一系列工艺参数,可以对其进行优化,使蚀刻工艺符合特定的材料和设备要求。可以调整离子束能量、束电流、束角和基板温度等参数,以达到所需的蚀刻速率、轮廓和表面光洁度。除材料蚀刻外,VEECO IBE机还支持灰化工艺,这涉及从半导体晶片中去除有机污染物或光致抗蚀层。通过仔细控制离子束参数和工艺条件,VEECO IBE可以有效地将表面灰烬,而不会损坏底层材料,确保装置结构的完整性。VEECO IBE工具配备了先进的控制系统和监控工具,以确保精确的过程控制和实时反馈。集成的等离子体诊断、光发射光谱和端点检测功能,使操作员能够监控蚀刻过程并实时进行调整,以优化性能和产量。此外,VEECO IBE资产是为高通量生产环境而设计的,具有自动晶圆处理、配方管理和数据记录功能等功能。这使半导体制造商能够在多个晶片和过程运行中获得一致和可重复的结果,从而提高了总体生产率和产量。总之,VEECO离子束蚀刻器(IBE)是半导体器件制造中一种通用、高度先进的材料蚀刻和灰化工具。VEECO IBE模型具有精确的控制、高均匀性和优异的工艺重复性,是实现现代半导体制造工艺严格工艺要求的重要工具。
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