二手 VEECO Microetch LL250 #59880 待售
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ID: 59880
Automatic loadlock ion mill, 4"
Optical / Fiber optic system for endpoint detection
Square substrates:
Can be modified to accept 4" round substrates
System used to mill:
Platinum
Titanium
Nickel
Copper
Nichrome thin film metals
Anisotropic etching includes:
Au, Cu, Ni, Cr, and TiW
Multistep etch processes for stacked layers (MLC, MCM):
Ceramics
Hybrids
Thin film heads
Flat panel displays
High frequency devices
Process flexibility with IBE, RIBE, CAIBE, flowcool substrate cooling
Rotation and tilting options configured
Pumping system includes:
Mechanical pump and turbo pump for main chamber
Mechanical pump and turbo pump for load lock / Transfer chamber
Spare parts:
Magnetic sensor
Shutter gear assembly
Shutter worm gear
Molly screws for source
Tungsten source wire
Tungsten neutralizer wire
Assorted insulators
Assorted O-rings
Fixturing plates, 4"
PC:
Comark
Model: 4000 Series
INTEL 486i
1994 vintage.
VEECO LL 250是一种离子铣削设备，用于制造纳米结构。它是生产高质量纳米结构表面的完美工具，特别是在电子和光电工业中的应用。该系统依靠聚焦离子束来实现优越的表面质量，并具有先进的烧蚀室和符合人体工程学的设计。VEECO Microetch LL250是一个现场编程单元,允许定制铣削参数。它具有广泛的光束能量、脉冲长度和气体压力。可以调整光束电压的全范围，为不同的基板和材料量身定制铣削功能。该机器还提供先进的离子束诊断和系统监控，包括离子束电流和能量控制。LL 250具有一个基于四极子的离子束柱，它允许广泛的束（电子）能量范围。这样可以提高铣削轮廓的灵活性和自定义程度。能量和脉冲长度的灵活性使得Microetch LL250适合各种离子蚀刻步骤，如MEMS的材料、生物微流体和光学元件。此外，VEECO LL 250具有高分辨率的成像级，允许对基板进行精确对准和定向。这对于保证整个晶圆大小的一致过程至关重要。其图像捕获和漂移校正模式还大大节省了开发成本并缩短了周期时间。VEECO Microetch LL250还包含动态光束成形特征，以尽量减少由不均匀的光束能量或间距引起的不均匀或扭曲的离子轮廓。这种动态光束成形确保了各种基材和材料的最高质量的蚀刻和工艺。LL 250在运行过程中也提供极低的噪音水平。这对于洁净室操作和带有敏感电子元件的设备非常重要。它还包括可选的附件,以进一步降低噪音水平。总体而言,Microetch LL250是一种多功能、高性能的离子铣削工具,非常适合实现表面粗糙的纳米结构。它具有广泛的功能、特性和性能,非常适合生产电子、光电和MEMS行业中的纳米结构曲面。
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