二手 YES / GLEN G 1000 #293735345 待售
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ID: 293735345
Plasma cleaner
(5) Trays
Operation temperature: 20-100°C
N2 Flow rate: 1.7 SCFM
Process gas flow rate: 20-50 SCCM
Interior chamber dimension (W x D x H): 45.72 x 45.72 x 30.48 cm
Chamber material: 6061-T6 Aluminium
SEMI Compliance: S2/S8
Mass Flow Controller: Up to 3
Range for exposure time: 0-1200 Seconds (20 Minutes)
Resolution of timer setting: 1 Sec
Performance:
RF Plasma power: 0-1000 W @ 550 VAC
RF Leakage magnetic: 0.6 mA/m, 4.15 x 10-7 A2/m²
RF Leakage electrical: 1.6 V/m, 4.2 V2/m²
Nitrogen consumption: 0 SCF, 6.8 SCF, 1.7 SCF
Power consumption with pump: 375 W, 1000 W, 640 W
Reactant gas consumption: 0 SCF, 20-50 SCCM
Heat emission: 920 W
Power requirements: 200-250 VAC, 20 Amps, 50/60 Hz, Single phase
Does not include pressurized cylinder gas.
YES/GLEN G1000是一种高度先进的蚀刻器和asher设备,设计用于半导体晶片和其他基板的精确和高效处理。这种多功能工具提供了广泛的功能,非常适合研究和开发以及大批量生产环境。YES G-1000具有卓越的性能和可靠性,是全球半导体制造商和研究机构的热门选择。GLEN G 1000是一种双室系统,结合了单个平台的蚀刻和灰化功能,为用户提供了无与伦比的灵活性和过程控制。该单元采用高功率射频等离子体源,允许对各种材料进行快速、均匀的蚀刻,包括硅、二氧化硅、氮化硅和金属。双腔室设计使用户能够快速轻松地在蚀刻和灰化过程之间切换,而无需手动重新配置腔室。G-1000的主要特点之一是其先进的流程监控能力。该机配备了多个传感器和监控工具,能够实时监控压力、温度、射频功率等工艺参数。这允许用户优化过程条件,以实现最大的性能和可重复性。YES/GLEN G 1000还具有先进的气体流量控制系统,可确保对气体流量和比率的精确控制,从而使用户能够获得高度统一和可重现的结果。在性能方面,YES G 1000在蚀刻和灰化应用方面均表现出色。该工具可实现大晶圆尺寸的高蚀刻速率和优异的均匀性,非常适合大批量生产应用。YES/GLEN G-1000还提供精确的灰化功能,用于从晶片表面去除光刻胶和其他有机污染物。资产的可调灰化参数允许用户针对不同的材料和工艺要求优化工艺条件。YES G1000的设计考虑了用户的便利,具有用户友好的界面和直观的软件控制。该模型的软件界面允许用户轻松编程和监控流程配方,以及访问高级诊断和故障排除工具。G1000还提供远程监视和控制功能,允许用户从远程位置监视和控制设备,以增加便利和灵活性。G 1000除了拥有先进的能力和性能外,还具有很高的可靠性和易于维护。该系统由高质量的元件和材料构成,这些元件和材料被设计用来承受半导体加工环境的严酷。GLEN G1000采用模块化设计,可方便地访问所有主要组件进行维护和维修。此外,该设备还配备了自我诊断工具,可帮助用户快速识别和解决问题,从而最大限度地减少停机时间并最大限度地提高工作效率。总体而言,GLEN G-1000是一款顶级蚀刻器和asher机器,提供无与伦比的性能、多功能性和可靠性。YES/GLEN G1000具有先进的工艺控制和监控功能、高性能蚀刻和灰化功能以及用户友好的界面,是半导体制造商和研究人员为满足其处理需求而寻求尖端解决方桉的理想选择。
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