二手 YES / GLEN R1 #9049956 待售

ID: 9049956
Plasma etcher RF Power supply with matching network Lark sequential microprocessor (3) Plasma gas inputs Granville phillips 275 Backfill input Inside dimensions: 16" x 16" x 16" (8) 14" x 14" trays 115 V, 60 Hz, 1.4 A, 175 W.
YES/GLEN R1是一种先进的蚀刻和化学灰化设备,设计用于在半导体制造工艺之前制备晶圆。它是由YES Technology开发的,具有在单个系统中执行干蚀和化学灰化过程的能力。该单元包含用于干蚀刻过程的反应性离子蚀刻器(RIE)和用于化学灰化的感应耦合等离子体(ICP)。所有过程都可以在惰性气体环境中使用各种各样的气体进行。机器配备了多种安全功能,如超压保护和离子束限流,以确保刀具的安全运行。YES R1结合了高级自动化和软件功能,提供了高度可重复的蚀刻和灰化性能。它具有用于控制、数据采集和过程优化的开放式体系结构计算机接口。该资产还能够使用电阻加热元件进行热灰化,该元件可达到高达9500 °C (17,000 °F)的温度。GLEN R-1配备了场发射扫描电子显微镜,以确保样品在加工前与基板精确对准。它还包含一个机器人样品装载机,以方便样品处理。该型号配备了众多的诊断、监控和安全功能,以确保设备运行可靠、安全。该系统还能够在安全数据库中存储和跟踪配方信息,以确保一致的流程结果。R 1非常灵活,非常适合各种半导体蚀刻和灰化应用。它结合了先进的自动化特性和先进的安全性和控制性,非常适合先进的半导体生产工艺。
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