二手 BRANCHY TECHNOLOGY Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching (ICP-RIE) system #293814269 待售

BRANCHY TECHNOLOGY电感耦合等离子体反应离子蚀刻（ICP-RIE）设备是一种先进的蒸发器，设计用于半导体制造和研究应用中的精密材料蚀刻。该系统利用感应耦合等离子体（ICP）技术，创造出一种高密度等离子体，然后用于蚀刻具有非凡均匀性和精确度的材料。ICP-RIE单元由一个放置要蚀刻材料的腔室和一个产生高频电磁场的射频线圈组成，从而产生电感耦合等离子体。等离子体通过对线圈施加射频功率而点燃，使过程气体电离形成与材料表面相互作用蚀刻的反应物种。BRANCHY TECHNOLOGY ICP-RIE机的一个关键特点是其控制离子能量和方向性的能力，导致精确和各向异性的蚀刻型材。这在半导体制造过程中至关重要，因为纳米级特征必须在基板表面上精确定义。该工具还提供了高度的工艺灵活性，允许用户量身定制等离子体化学和工艺参数，以达到特定的蚀刻要求。这种灵活性使得广泛的材料可以被蚀刻，包括硅、二氧化硅、金属和III-V化合物半导体。BRANCHY TECHNOLOGY ICP-RIE资产配备了先进的流程监控能力，以确保一致和可重现的结果。实时过程诊断，如光发射光谱和端点检测，允许用户监控蚀刻过程并进行实时调整以优化性能。此外,该模型还具有用于样品传输的锁载室,可最大程度地减少腔室停机时间并提高整体设备生产率。锁载室还通过减少污染物暴露来帮助保持清洁的加工环境。ICP-RIE系统采用方便用户的软件界面设计，便于编写流程配方和参数调整程序。这简化了操作,减少了新用户的学习曲线,使其成为研究和生产环境的理想工具。综上所述，BRANCHY TECHNOLOGY ICP-RIE单元是一个尖端蒸发器，为半导体制造和研究应用提供精确、均匀、高度可控的材料蚀刻能力。其先进的特性和灵活的操作使其成为一个有价值的工具，用于各种材料加工任务，从设备制造到表面修改和图桉。