二手 KURT J. LESKER Nano 36 #293772535 待售
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ID: 293772535
优质的: 2019
Thin film deposition system
Process modules:
Low temperature evaporation sources
Thermal evaporation
Magnetron sputtering: RF and DC
Options:
Film thickness control
Various substrate fixtures
Substrate heating and cooling
Pressure control
Glovebox integration
Power supply: 208-240 VAC, Single phase, 50-60 Hz, 3 Wire
2019 vintage.
KURT J. LESKER Nano 36是为纳米技术研发中先进的薄膜沉积过程而设计的尖端蒸发器。这种高性能的设备提供了对材料沉积的精确控制,使研究人员能够创造出具有非凡的均匀性、纯度和对基板的附着力的薄膜。纳米36蒸发器的核心是其精密的真空室,为薄膜沉积过程提供了必不可少的高真空环境。该腔室设计用于容纳多种基材,包括硅片、玻璃滑梯以及其他纳米技术应用常用的材料。这种多功能性使研究人员能够轻松地将薄膜沉积在不同类型的表面上。KURT J. LESKER Nano 36具有独特的电子束蒸发源,能够蒸发各种材料,包括金属、氧化物和半导体。这个源产生一个聚焦电子束,将材料加热到蒸发温度,产生一股汽化的原子流,沉积到基板上。电子束蒸发的使用保证了高沉积速率和对沉积薄膜厚度和组成的良好控制。除了电子束蒸发源外,Nano 36还配备了一系列先进的特性,以增强沉积过程。其中包括精确的厚度监测系统,使研究人员能够实时监测沉积速率,并以高精度达到所需的薄膜厚度。该单元还包含一个旋转的基板支架,确保在整个基板表面均匀沉积。KURT J. LESKER Nano 36蒸发器的关键优点之一是其用户友好界面,简化了操作和数据分析。机器通过直观的软件界面进行控制,使研究人员能够轻松设置沉积参数、监控过程变量以及分析数据。这种简化的工作流程使研究人员能够有效地进行实验并及时获得可靠的结果。Nano 36还在设计时考虑到了可扩展性,使研究人员能够随着研究需求的发展而扩展工具的功能。资产可以很容易地与额外的沉积源(如溅射或热蒸发)结合在一起,以使更广泛的薄膜沉积技术成为可能。这种灵活性使得KURT J. LESKER Nano 36成为开展纳米技术和材料科学多样化研究项目的理想平台。总体而言,Nano 36代表了最先进的蒸发器模型,在纳米技术研究中为薄膜沉积提供了无与伦比的性能和多功能性。KURT J. LESKER Nano 36具有先进的特性、精确的控制和用户友好的界面,是研究人员探索纳米级薄膜独特特性和应用的宝贵工具。
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