二手 ULVAC ei-OPT085 #9376087 待售
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ID: 9376087
晶圆大小: 4"
优质的: 2010
Optical evaporation system, 4"
Wafer size: φ50mm±1.0mm
Thickness: 280±15μm
Dome size: 790φmm (4" Wafer x 110Pcs)
EB-Gun: EG0-1G
HPS-1000G-100 EB Power supply, 10kW
LR90 Dry pump
CP11 U-16P Cryo pump
DRP11 Dry pump with LR-90 Silencer
MFC: O2 Gas, 50 SCCM
Lamp heater: Maximum 350°C
PLC CPU
C-30VR Cryo compressor
TOKYO INSTRUMENTATION FS12-13-21-22 FA Series flow switch
VEECO Ion gun controller screen
CRTM-9000G Film thickness monitor
ET1515LJ Touch panel system
BENQ Monitor, 15"
Main source shutter
(4) Heating lamp units
Main breaker
IG Filament gauge
Ion gun
Pig gauge
MAINTE Button cover
Holder
Lid plate
(4) Spare parts for protective board
No quartz oscillator
No EBGU
No dome
2010 vintage.
ULVAC ei-OPT085蒸发器是为真空沉积过程设计的高性能设备.它是一种物理气相沉积（PVD）蒸发器，为金属或陶瓷膜沉积在基板表面而建造。该系统主要用于工业应用，其主要功能是在不同表面提供最精确的薄膜沉积。Ei-OPT085是一种具有对称设计和高真空室的单基板蒸发器。它的圆柱形墙壁由高度耐用的不锈钢制成，尺寸为200毫米（直径）和600毫米（高度）。蒸发器的热阻为0.2 （C/s）。此外,它还提供出色的导热性能,帮助基板表面快速达到所需温度。沉积室的真空水平为330μM/sec，带有出口压力表。蒸发器使用ULVAC专利的A-Mode Flow Booster （AFB）技术来精确控制汽流。这确保了沉积过程的一致性和可靠性。ULVAC ei-OPT085由变频驱动单元提供动力,从而减少了对机械部件的需求。Ei-OPT085具有多种生产过程控制功能,包括精确的温度控制机、计算机辅助分析工具、温度反馈控制资产和数据记录器。此外，蒸发器具有智能沉积控制能力、各种关键参数的自动监控以及快速过程调节能力。先进的冷却模型为蒸发器提供了卓越的温度控制，使其能够以最小的杂质进行高质量的薄膜沉积。总体而言，ULVAC ei-OPT085蒸发器是物理气相沉积的先进设备，为用户提供可靠的性能和高精度的结果。该系统具有独特的特点和高效的设计，非常适合半导体、电子和医疗设备制造等行业使用。
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