二手 ADTEC Adex-3000S #9363513 待售

ADTEC Adex-3000S Exposure Equipment是一种先进的晶圆级无掩码工作流工具,具有最先进的功能。Adex-3000S提供了高达15微米的扩展分辨率、阵列性能和分辨率范围,以支持各种不同的半导体/MEMS设计。该系统配备了三个石英灯凹面镜，其多灯阵列设计确保了基板尺寸可达8英寸的均匀照明水平。它还支持接触各种类型的光刻胶薄膜、正负感光材料。ADTEC Adex-3000S还具有先进的实时调制控制单元,可实现高精度、精细的阵列,分辨率降至1.3 nm,与附近的曝光点形成鲜明对比。这种精细的精确度使光刻设计参数在特征级别更紧密,线性度更高。这台实时调整机还通过优化的聚焦输入实现高速和高分辨率的多模式曝光，从而实现更高的吞吐量。这种曝光工具采用了一种新颖的设计方法，利用高通量的空气/气体对流板来平整曝光场。这允许在表面高度均匀的暴露。此外,Adex-3000S还使用一种自校准设备,可以检测和补偿激光功率波动,以消除曝光期间的掩蔽误差和失真。ADTEC Adex-3000S Exposure Model由于具有等离子波光刻功能而提供了快速可靠的成像功能。此功能可实现极高速曝光,并大大减少图像失真。还可以通过先进的激光能量脉冲控制设备来调整和塑造激光能量输出，从而提高分辨率。Adex-3000S支持批量生产和高级设计的快速原型设计,而无需专用的遮罩块。这大大降低了生产成本,因为不再需要专用口罩,从而降低了批量生产的成本。此外,这还支持快速周转原型和验证项目。该系统消除了常规面膜生产和晶圆加工中遇到的瓶颈。ADTEC Adex-3000S Exposure Unit提供独特的功能组合,可实现更快的质量设计和更大的灵活性。凭借其多灯阵列、等离子波光刻、自校准机，为用户提供了优于传统掩模图桉的性能和精度水平。