二手 AXCELIS / FUSION 200 PCU #9123076 待售

AXCELIS/FUSION 200 PCU是为光刻和半导体制造而设计的高精度曝光设备。它提供了更高的准确性和吞吐量速率,并提高了可靠性和性能。该系统提供200 W的最大源功率，具有广泛的波长范围，包括EUV、F2、KrF、ArF和i-line源。该单元由精密光刻模块（PPML）与光束扫描机（BSS）耦合而成。PMML由X射线源、掩模对齐器、照明组件和数据采集工具组成。X射线源（X-Ray Source）是一种热电子型放电原子源，它传递高能电子来加热目标。这个目标将X射线辐射转换为紫外线、可见或红外辐射。掩模对齐器允许在X射线光束中精确定位掩模。其机动化的五轴级提供了在五个自由度内调整掩模位置的灵活性。Illumination Assembly包含光学元件，包括透镜、镜子和滤镜，它们塑造光束图桉，减少热失真和控制能量分布。数据采集资产直接从图像传感器收集和存储曝光数据。光束扫描模型（BSS）每次运行同时处理200个晶圆，提供广泛的曝光定制。例如，用户可以定制激光脉冲持续时间、扫描形状和速度，以及高精度剂量。BSS还提供了可选的基于真空的预扫描仪（VPS）,用于晶圆预对准和改进测量吞吐量。VPS与激光模式识别算法集成在一起，该算法在曝光前识别晶片上的基准标记，并自动校正任何偏离规格的情况。FUSION 200 PCU结合了先进的精密对准和卓越的扫描精度,提高了光刻性能.该设备使快速、准确和可靠的复杂和精细布局曝光成为可能,使其成为关键光刻应用的理想工具。