二手 AXCELIS / FUSION 200 PCU #9231979 待售

AXCELIS/FUSION 200 PCU（光子准直均匀性）是提供高精度光刻能力的先进曝光设备。FUSION 200 PCU具有高度可定制和自动化的功能以及用户友好的软件,可实现各种半导体和光掩模材料的快速、高效、准确的对准、曝光和处理。该系统采用两级阵列和对齐单元,具有均匀的遮罩和无像差的照明功能。第一阶段是投影对齐器，利用影像对齐工具（IAT）和精确对齐工具（PAT）的组合，在x和y维度上实现光掩模与5纳米以内的精确对齐。第二阶段是曝光工具，它使用应用对齐均匀投影（Application Allied Uniform Projection，AUP）来统一曝光光掩模材料。AXCELIS 200PCU还使用了获得专利的AQUA（高级准相移掩模）技术，以确保在工艺临界光刻步骤中均匀的强度水平。这有助于保证任何光掩模材料上的全尺寸、高产量、稳定过程的光刻胶覆盖。AXCELIS 200 PCU具有四种高级对准和曝光模式，允许用户适应专门的光掩模材料和光刻工艺。其中包括：启用自动电子束写入的E-RASTER模式、标准模式和静态模式。此外,这台机器还具有"快速模式",它是为最大吞吐量而设计的,并且比0.5到12.5um的光掩模的行业标准周期时间更快。在成像和光学控制方面,200 PCU使用了一个光学封装,它利用了有源的数字远程中心光源,可为用户提供更大的灵活性、稳定性和准确性。此工具还配备了能够定位最困难的掩蔽模式的高分辨率模式识别资产。此外,FUSION 200PCU可用于垂直和水平配置。最后,200PCU提供了三种高级曝光后处理功能,以确保准确、可靠的处理结果。这些包括：基板清洁、装卸和修边。所有这些功能都是完全自动化的，可以同时使用，这意味着光掩码可以快速处理，很少有操作员干预。AXCELIS/FUSION 200PCU是一种先进的曝光模型,它为半导体和光掩模的制造提供了高度的精度、准确性和灵活性。凭借其强大的功能,用户可以实现快速的周期时间、高度精确的对齐和曝光,以及精确的后期处理以获得高质量的结果。