二手 AXCELIS / FUSION M 150PC #293822595 待售
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ID: 293822595
UV Irradiator, 6"
(25) Wafers
(3) Phase
Voltage: 380 V
Frequency: 50 Hz
Maximum temperature.: 200 ℃
Vacuum: > 200 mmHg
CDA: ≥ 4.0 bar (4 kgf/cm²)
PCW: ≥ 4.0 bar (4 kgf/cm²)
Exhaust: 30 SCFM
Heating Rate: 3.1 ℃/s
Cooling Rate: 5.8 ℃/s
Temperature Control Mode: PID Control
Process High Current: 10.7 A / 10.8 A
Process Low Current: 10.5 A
High Irradiance: 164 mW/cm²
Low Irradiance: 78 mW/cm².
AXCELIS/FUSION M 150PC是用于高质量和精密集成电路光刻的最先进的曝光设备。它专为满足半导体行业的光刻需求而设计。该系统由准分子激光束源、高精度投影光学模块、晶圆级、集成前端单元（FES）和综合工艺控制软件套件组成。该机设计为提供最高质量的结果，具有高对比度的表面，快速曝光时间，精确对准和低线条模煳。专有的FES可确保可重复性、高吞吐量和卓越的图像质量。激光束源提供高通量密度和一个狭窄的，5 nm带宽的紫外线辐射。这种激光能量被分割，其中一部分光束使用横晶圆，一部分用于直列对准，提供低至0.5微米的分辨率。高度可靠的投影光学模块由三组镜头和镜子组成，提供成像分辨率和失真校正。通过激光和光掩模的组合，可以产生纳米翅目或微米尺度的图桉。晶片级保证了精度对准，具有六轴运动控制和高通量晶片装载机和卸载机。该工具的非凡稳定性使晶片在曝光过程中具有极好的位置精度。最后，过程控制软件套件为用户提供了一整套监控整个光刻过程的功能。这包括配方处理、记录所有参数、错误检测和恢复以及报告功能。该资产还支持分布式处理,允许多个工作站同时运行。FUSION M150PC结合激光技术、投影光学、晶片级和软件控制，为集成电路系统的制造提供了无与伦比的性能。该模型的设计目的是在一小部分时间和成本内产生最优质的平版印刷图像,使半导体制造商能够保持竞争力,同时跟上行业需求的步伐。
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