二手 AXCELIS / FUSION M 200 PC #9266271 待售
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ID: 9266271
优质的: 2006
Photo stabilizer
Wafer substrates, 3"-6"
Cassette to cassette hander
UV Light exposure with photoresist / Substrate temperature
Transporters: Robotic pick and place
Lamp functions: Off, flash, low and high
Chuck temperature range: 50-240 iaC
Chuck temperature ramp rate: 0.5-2.5 iaC/sec
2006 vintage.
AXCELIS/FUSION M 200 PC是为产品开发、原型制作和生产线而设计的最先进、高精度晶圆曝光设备。该系统采用可变孔径、高精度曝光显微镜，最大分辨率为20 μ m/1 μ m，视野为95 x 95 mm。该单元设计用于光刻、高级包装、MEMS、薄膜光伏和生物电子等应用。机器的大型机械子系统提供串联自动晶片对准、晶片聚焦和格式转换功能。自动晶片对准，加上闭环对焦控制和广泛的对焦范围功能，提供了多个晶片对准的准确性和可重复性。集成的晶片处理工具可容纳所有盒式磁带、晶片荚、扁平和弯曲的基板、具有大量凸点的晶片、编织和共晶键合以及真空包装内的MEMS。该资产还采用节省空间的扫描仪设计，可集成400毫米晶圆，用于工艺开发。扫描仪光学子系统强调性能高于成本，以实现现成设备的最高分辨率和精度。该光学器件由高功率短脉冲激光二极管、环境密封透镜组件和减场光学器件组成，可提供高达200 mW/cm2的光强度，并具有较窄的光谱带宽。FUSION M200PC旨在满足半导体行业对高产、低成本和无缺陷华夫饼的需求。一个视觉模型中的校准特征和先进的晶圆间隔器控制设备增加周期时间和产量由于提高过程的灵活性和晶圆跟踪。此外，灵活的应用支持操作确保了对可回收误差的持续反馈，自动激光清洗消除了颗粒污染，提高了产量。该系统还包括直观的、以用户为中心的软件，能够控制整个设备，包括沉积前的光照。利用直观的拖放用户界面，用户可以设计自己的光刻作业，控制参数并实时监控过程。软件还包括一个带有机器内数据库的曝光日志,用于存储和显示过去的作业运行。总体而言,AXCELIS M200 PC在各种晶圆格式中提供精确、可重复的性能和无与伦比的可重复性,使其成为半导体制造的理想选择。它是过程开发和生产的完美工具，快速转换和机载数据记录可产生高产和优异的效果。
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