二手 AXCELIS / FUSION UV #9257126 待售

AXCELIS/FUSION UV是为半导体制造中使用的光刻工艺而设计的高通量曝光设备。利用波长193纳米的深层FUSION UV准分子激光光源，实现高重复性的超细特征。该系统能够将各种尺寸和材料（如硅、SiGe、石英或玻璃）的基板暴露在300毫米以下,并针对高精度成像进行了优化。此外,该设备先进的先进光学和成像技术允许分辨率降至15 nm以下的纳米范围和线宽。该机器能够提供量身定制的曝光，以适应各种工艺的需要，从而使每一层基板都能准确和精确地曝光。它在项目的开发阶段特别有用，为原型设计和测试新设计提供了一个灵活的平台。该工具还具有实时成像优化技术,可实现准确和可重复的曝光结果。AXCELIS UV还拥有具有直观图形用户界面的最先进的资产控制器,可轻松更改设置和优化流程。此外,该模型可以集成到现有的FB中,并且可以根据特定需求进行定制。设备包括一系列安全特性。扫描头配有安全罩，系统为人员和工作环境提供多层保护。紫外线的设计目的是用环保的工艺和材料保护环境。该设备旨在优化吞吐量,并在所有曝光过程中实现一致的结果。这是通过高效电源、高级控制算法和复杂的光学设备的组合来实现的。所使用的激光光源是为长期使用而设计的，维护最少，输出稳定。总体而言,AXCELIS/FUSION UV是一种高效可靠的曝光机器,可提供高精度成像和可定制的曝光配置文件,并提供优化的吞吐量。它是任何半导体制造工艺的通用且经济高效的解决方桉。