二手 AXCELIS Microlite #9293673 待售

AXCELIS Microlite是为亚微米晶片图样设计的先进曝光设备。该系统适用于最先进的光刻工艺,为200 nm以下设备的高分辨率阵列提供卓越的数值孔径和放大倍率。Microlite凭借其专有的精密光学力学、高对比度光学和闭环成像算法，提供了优于传统光刻系统的像差校正精度。先进的定位组件和一个离轴安装的投影镜头能够精确移动和控制该单元的光学元件。这样可以确保准确地完成最小的固定和调整,从而实现更好的模式对齐。其优越的光学和先进的显微镜技术使其成为在半导体晶片上打印微图样的理想选择。该机适用于广泛的应用，如光掩模生成、纳米印迹光刻等先进的光刻工艺。其紧凑的腔室和卓越的真空性能使其能够处理光刻过程中具有侵略性的气体化学反应。它还能够包含高对比度特征,从而在分子尺度原型制作中实现精确的软图像生成。AXCELIS Microlite工具的另一个关键特点是它的高分辨率投影光学。该资产配备了100 µm分辨率的投影光学元件,能够为最小的特征尺寸提供独特的成像性能。这样就可以暴露出各种各样的特征，包括只有几纳米大小的线条和图桉。该模型在包括石英、金属和介电材料在内的各种晶圆基板上提供了优越的图样均匀性。由于其严密的温度、涂层和振动控制，进一步提高了其均匀性。Microlite还附带了用于质量控制和OPC验证的内置设备，这使得它能够检测光刻过程中甚至最微妙的变化。总之，AXCELIS Microlite是一种先进且用途广泛的曝光系统，提供纳米压印光刻和其他先进光刻工艺所需的高分辨率。利用其内置的图像校正算法和精密光学器件，它能够在广泛的晶圆基板上实现卓越的模式均匀性。因此，它是创造亚微米半导体器件和其他复杂纳米结构的绝佳选择。