二手 DRC UV-M10 #293642351 待售

DRC UV-M10是一种强大的曝光设备，设计用于生产半导体和薄膜器件的高性能。该系统高度自动化，集成了光刻加工工作流程的三个关键步骤：基板加载、曝光和曝光后烘烤。集成的工作流可实现高效且经济高效的设备制造过程。UV-M10具有一个大面积圆形对准单元，带有两个工作台臂，能够有效地装载和卸载基板。它能够处理手动和自动化生产,根据基板的尺寸和正在生产的设备类型,具有广泛的对准精度。此外,该机器的设计易于配置,并可根据客户要求进行高度定制。曝光工具配备了先进的超高分辨率投影资产。该型号可提供高达40 mJ/cm ²的光电紫外线能量,吞吐量高达每小时1400晶圆。它还配备了一种防光设备，保证基板均匀暴露于光性紫外线辐射，从而使最终装置具有均匀的图样尺寸和高度的均匀性。DRC UV-M10提供了广泛的曝光后烘烤（PEB）功能，包括温度控制、快速冷却干燥和半自动样品处理。它旨在确保在设备性能和产量方面取得最佳效果,同时最大限度地减少生产所需的时间和能源。此外，该系统还配备了一整套软件工具，使用户能够根据设备的生产要求调整曝光参数和基板温度。这确保了可靠的制造过程,同时考虑到正在生产的设备的复杂性。该软件还旨在解决各种安全和环境问题，如紫外线辐射水平以及与制造过程有关的任何潜在污染问题。UV-M10是一个强大而高效的曝光单元，为生产半导体和薄膜器件提供了理想的解决方桉。它的自动化工作流和高级功能使制造商能够以经济高效的方式快速可靠地生产高性能设备。