二手 EFOS Novacure #9396497 待售
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EFOS Novacure是用于大规模曝光研究的先进曝光设备。它通过整合各种技术来提供广泛的接触能力，以保证测试样品的均匀和可靠的接触。该系统包括一个高功率飞秒激光源和一个UV/Visible单色仪，以及在曝光过程中用于观测和图像记录的数码相机。它还包括激光单元的直列式控制柜和各种保护用户的安全功能。机器可以通过用户友好的软件界面进行控制。激光的波长范围为200 nm至20微米，可用于短脉冲或长脉冲，以及连续波操作。其功率输出范围为1至500 mJ,可在各种暴露水平上提供精确的功率控制。还可以调整激光束轮廓以适应不同的材料和结构。该激光器有一个内置的冷却工具，以确保均匀的照明和一个压电驱动的光学模块，以方便和精确地调整光束角度。光学紫外线/可见单色仪可确保低光背景和均匀的光谱输出。这允许从单波长实验到多波长曝光研究的广泛曝光条件。数码相机允许在曝光过程中进行实时观察和图像捕捉。可以存储这些图像,然后将其用于分析和归档。直列式安全柜设有光学安全联锁，防止门开时雷射操作、发声器及紧急情况下的蒸发器。它还包括一个用于均匀样品分布的真空室。软件界面提供了许多有用的功能，如曝光参数的调度和记录、可编程曝光序列、实时数据监控等。它还能够与外部硬件和外部软件集成,以进一步增强和定制曝光资产。综上所述，Novacure是一个用途广泛且可靠的曝光模型，用于广泛的曝光研究。其可靠的激光具有精确的功率控制和全面的安全特性，是实验室和工业环境中安全可靠的研究设备。它是短、长脉冲研究、单、多波长实验和各种曝光过程的理想选择。
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