二手 EXFO / EFOS 100SS #9061200 待售

EXFO/EFOS 100SS是一种最先进的曝光设备,旨在为先进的光刻工艺开发提供卓越的精度和可重复性。该系统使用步长和重复的x-y蒙版放置单元（动态范围很广）来优化狭缝暴露蒙版的曝光。EXFO 100SS利用高端浮动阶段曝光机,提高了曝光机的位置精度和稳定性。该工具由于其出色的速度和可重复性，非常适合高分辨率的直接写入应用，如小型化。EFOS 100SS曝光资产采用可编程阶段，这有助于灵活地自动曝光不同的狭缝曝光面膜。该模型的狭缝曝光能力涉及一种对准设备，该设备将光束的发散轴向分量准直，从而在晶圆上形成线性狭缝图像。这样可以确保狭缝图像精确地定位在晶片上,但尺寸或形状变化最小。为了进一步确保优异的效果，该系统有一个光学对准双照明单元，光源来自卤素和激光源具有宽带宽。这允许任何范围的波长照明选项，可能需要的曝光。双源照明还能够更好地控制曝光剂量，并在整个曝光过程中准确跟踪焦点。由于具有动态狭缝扫描功能,100SS还提供了在各种曝光范围内快速扫描速度的优势。狭缝扫描功能允许机器在晶圆的不同区域快速连续和按可编程顺序进行多次曝光。这确保了在涉及多个狭缝暴露的过程中的高吞吐量。此外，该工具还设计了一个安全的住房和气闸资产，用于清洁环境。气闸确保测试装置无污染暴露，型号配备1-1000级除尘器。总之，EXFO/EFOS 100SS曝光设备以其卓越的精度和可重复性，为先进的光刻工艺开发设定了行业标准。其先进的狭缝曝光能力和光学对齐的双照明系统提供了精确曝光任何波长的灵活性。快速扫描速度和1-1000级尘埃过滤器可提高吞吐量和无污染环境。